申请/专利权人：东北大学;上海新弧源涂层技术有限公司

申请日：2023-04-04

公开（公告）日：2023-09-12

公开（公告）号：CN116732469A

主分类号：C23C14/06

分类号：C23C14/06;C23C14/08;C23C14/35;B23B27/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.09.29#实质审查的生效;2023.09.12#公开

摘要：本发明公开一种CrNCr2O3涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、溅射CrN过渡层：将离子清洗后的基体停留在Cr靶之前，通过功率15kW的脉冲反应溅射获得CrN过渡层，得到溅射CrN过渡层的基体；S2、制备CrNCr2O3结构涂层：将步骤S1中溅射得到CrN过渡层的基体停留在Cr靶之前，通过功率15kW的脉冲反应溅射获得Cr2O3涂层，即得。本发明涂层兼具高硬度和低摩擦的优点，得到的多层涂层的硬度可达到25GPa以上，同时具有低于0.1的摩擦系数，能够弥补传统合金在刀具涂层使用中的不足，拓宽了刀具涂层的研究范围，同时本发明方法工艺简单、成本低、效率高。

主权项：1.一种CrNCr2O3涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、溅射CrN过渡层：将离子清洗后的基体停留在Cr靶之前，通过功率15-18.5kW的脉冲反应溅射获得CrN过渡层，得到溅射CrN过渡层的基体；S2、制备Cr2O3结构涂层：将步骤S1中溅射得到CrN过渡层的基体停留在Cr靶之前，通过功率15-18.5kW的脉冲反应溅射获得Cr2O3涂层，即得。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东北大学;上海新弧源涂层技术有限公司 一种基于高功率脉冲磁控溅射技术的CrN/Cr₂O₃多层涂层及其制备方法

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