申请/专利权人：成都翱翔拓创光电科技合伙企业(有限合伙)

申请日：2020-01-13

公开（公告）日：2023-09-12

公开（公告）号：CN111056740B

主分类号：C03B37/018

分类号：C03B37/018

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.09.12#授权;2020.05.19#实质审查的生效;2020.04.24#公开

摘要：本发明公开了PCVD法制备有源光纤预制棒的装置和方法，装置包括PCVD装置和掺杂装置，掺杂装置包括气化单元、气相传输单元和气相沉积单元，气相沉积单元包括衬管，气化单元包括普通沉积原料供给子单元、共掺物原料供给子单元和稀土卤化物原料供给子单元，共掺物原料供给子单元包括高温蒸发罐，稀土卤化物原料供给子单元包括高温蒸发腔；气相传输单元包括高温输送管、第一输送管、第二输送管和第三输送管，至少一个高温蒸发腔设置在衬管内靠近PCVD炉处，第一输送管先后穿过高温输送管和高温蒸发腔后伸入衬管。方法采用上述装置进行有源光纤预制棒的制备。本发明具有良好的密封性和可扩展性，能够实现利用PCVD法制备各种有源特种光纤预制棒。

主权项：1.一种PCVD法制备有源光纤预制棒的装置，其特征在于，包括PCVD装置和掺杂装置，所述掺杂装置包括气化单元、气相传输单元和气相沉积单元，气相沉积单元包括可旋转地穿设在PCVD装置的PCVD炉内的衬管；气化单元包括普通沉积原料供给子单元、共掺物原料供给子单元和稀土卤化物原料供给子单元，共掺物原料供给子单元包括设置在衬管外部的高温蒸发罐，稀土卤化物原料供给子单元包括设置于衬管内部的至少一个高温蒸发腔；气相传输单元包括高温输送管、与第一气源相连的至少一根第一输送管、与普通沉积原料供给子单元相连的第二输送管以及与共掺物原料供给子单元相连的第三输送管，第二输送管和第三输送管均穿过高温输送管后伸入衬管，其中，所述至少一个高温蒸发腔设置在衬管6内靠近PCVD炉处，每根第一输送管先后穿过高温输送管和其中一个高温蒸发腔后伸入衬管；高温蒸发腔由纯石英或陶瓷材料制成且设置在距离PCVD炉10mm至100mm处，高温蒸发腔所在位置的衬管外设置有高温加热炉并且所述高温加热炉的温度控制范围为790～1000℃、温度控制精度为±1℃；所述高温蒸发腔中盛放稀土卤化物原料，所述高温蒸发罐中盛放共掺物原料，高温蒸发罐包括蒸发料罐和加热器且加热器的温度控制范围为50～400℃。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 成都翱翔拓创光电科技合伙企业(有限合伙) 一种PCVD法制备有源光纤预制棒的装置和方法

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