申请/专利权人：中国电子科技集团公司第五十四研究所

申请日：2023-05-19

公开（公告）日：2023-09-15

公开（公告）号：CN116754852A

主分类号：G01R29/10

分类号：G01R29/10;G01R23/16

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.10.03#实质审查的生效;2023.09.15#公开

摘要：本发明公开了一种测量高功率大型反射面天线EIRP的方法，涉及反射面天线性能测量的技术领域。本发明首先在待测天线辐射近场区的不同距离处，测量待测天线近区功率密度的大小；然后依据待测反射面天线的口面场分布函数，计算不同距离处轴向近区功率密度修正因子；由测量的不同距离处近区功率密度和轴向近区功率密度修正因子，计算待测天线EIRP的大小；最后对不同距离处测量的EIRP进行算术平均，确定高功率大型反射面天线EIRP的大小。本发明的方法简单可行，具有推广和应用价值。

主权项：1.一种测量高功率大型反射面天线EIRP的方法，其特征在于，包括以下步骤：1测量不同距离处的近区功率密度，具体方式为：在待测天线近场区内，依次在不同距离处设置标准增益喇叭，标准增益喇叭到待测天线口面的距离R满足在距离Ri处，调整待测天线与标准增益喇叭轴线对准且极化匹配，用频谱分析仪测量标准增益喇叭接收的信号功率电平，用PmRi表示，单位为dBm；用下式计算不同距离处的近区功率密度： 式中：PDRi—待测天线在距离Ri处的近区功率密度，dBWm2；l—工作波长，m；PmRi—待测天线在距离Ri处频谱分析仪测量的信号功率电平，dBm；LRF—标准增益喇叭与频谱分析仪之间射频电缆损耗，dB；GSGH—标准增益喇叭的增益，dBi；N—正整数，N≥3；2计算轴向近区功率密度修正因子，具体方式为：根据待测天线的口面场分布函数、测试距离和天线口径，利用下式计算待测天线的轴向近区功率密度修正因子： 式中：PDCFRi—待测天线在距离Ri处的轴向近区功率密度修正因子；fx—待测天线的口面场分布函数；βi—距离因子，x—对待测天线口面半径进行归一化的变量j—虚数单位；3计算待测天线EIRP，具体方式为：由测量的不同距离处的近区功率密度及相应的轴向近区功率密度修正因子，利用下式计算待测天线的EIRP： 式中：EIRP—待测天线的等效全向辐射功率，dBW；A—待测天线口面面积，m2；完成高功率大型反射面天线EIRP的测量。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国电子科技集团公司第五十四研究所 一种测量高功率大型反射面天线EIRP的方法

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