申请/专利权人：应用材料公司

申请日：2022-02-16

公开（公告）日：2023-10-31

公开（公告）号：CN116981543A

主分类号：B24B37/005

分类号：B24B37/005

优先权：["20210325 US 17/212,862"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.11.17#实质审查的生效;2023.10.31#公开

摘要：本文公开用于抛光基板的方法及装置。更具体而言，装置涉及用于抛光基板的集成式CMP系统。CMP系统具有经配置以抛光基板的抛光站。旋转清洗干燥SRD站经配置以清洁且干燥基板。计量站经配置以测量基板的参数。机器人经配置以将基板移动至SRD站中及自SRF站移出基板。以及受动器清洗干燥EERD站，其经配置以清洁且干燥机器人的终端受动器。

主权项：1.一种用于抛光基板的集成式CMP系统，所述CMP系统包含：抛光站，经配置以抛光基板；旋转清洗干燥SRD站，经配置以清洁且干燥所述基板；计量站，经配置以测量所述基板的参数；机器人，经配置以将所述基板移动至所述SRD站中及自所述SRF站移出所述基板；受动器清洗干燥EERD站，经配置以清洁且干燥所述机器人的终端受动器；和湿槽，经配置以在清洁或抛光时保持所述基板为湿的。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料公司 具有集成的旋转清洗干燥的硅基板的自动化里外干燥双侧抛光及计量

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