申请/专利权人：江苏迪纳科精细材料股份有限公司

申请日：2023-11-17

公开（公告）日：2023-12-19

公开（公告）号：CN117247273A

主分类号：C04B35/453

分类号：C04B35/453;C04B35/622;C04B35/626;C04B35/645;C23C14/35;B02C15/08;B02C23/16

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.01.05#实质审查的生效;2023.12.19#公开

摘要：一种高迁移率的X‑IZO磁控溅射靶材的制备方法与装置，包括如下步骤：把ZnO的粗粒送入研磨件中执行研磨而取得细粒一；把稀土金属氧化物的粗粒送入研磨件中执行研磨而取得细粒二；把In2O3的粗粒送入研磨件中执行研磨而取得细粒三；把相应重量份数的细粒一、细粒二和细粒三添进黏接剂和活性剂后混合拌匀后取得混合物；把混合物粒化、成形初始品与烧结后最终取得X‑IZO磁控溅射靶材；有效提升了X‑IZO磁控溅射靶材的迁徙率，其不低于34.7cm2V·s；其装置减少了迁移率的X‑IZO磁控溅射靶材的制备方法的流程，更为改善了研磨的高效性之际还改善了研磨的粒径达标量。

主权项：1.一种高迁移率的X-IZO磁控溅射靶材的制备方法，其特征在于，包括：S1,把ZnO的粗粒送入研磨件中执行研磨而取得细粒一；S2,把稀土金属氧化物的粗粒送入研磨件中执行研磨而取得细粒二；S3,把In2O3的粗粒送入研磨件中执行研磨而取得细粒三；S4,把相应重量份数的细粒一、细粒二和细粒三添进黏接剂和活性剂后混合拌匀后取得混合物；S5,把混合物粒化、成形初始品与烧结后最终取得X-IZO磁控溅射靶材；把混合物粒化的方法包含：把混合物倒入离心喷雾干燥机内干燥粒化而得粒化物，在干燥粒化期间离心喷雾干燥机的进风温度为180℃；排风温度为90℃~110℃；成形初始品的方法包括：先把粒化物装入模具后，接着送入摩擦压力机初步成形，然后送进冷等静压机内依照3.2兆帕分钟～4.6兆帕分钟的升压速度升压至262兆帕～264兆帕，稳压0.25小时～0.5小时后依照3.2兆帕分钟～4.6兆帕分钟的降压速度执行降压，降压到常压后卸掉模具，以此成形出初始品；烧结的方法包含：把初始品送进烧结炉，温度控制在520℃～610℃执行去胶，接着降温到26℃后，往烧结炉内送进O2且让O2的压强维持为0.4兆帕，升温至1400℃~1580℃执行烧结，取得高迁移率的X-IZO磁控溅射靶材；升温速度是2℃~5℃分钟，升温后的恒温用时保温时间为9小时～13小时。

全文数据：

权利要求：

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