申请/专利权人：西安思摩威新材料有限公司

申请日：2023-08-28

公开（公告）日：2024-01-05

公开（公告）号：CN117348342A

主分类号：G03F7/004

分类号：G03F7/004;G03F7/20;G03F7/038

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.01.23#实质审查的生效;2024.01.05#公开

摘要：本发明属于光刻胶技术领域，涉及负性高折射率OC光刻胶组合物、光固化图案的制备方法及应用。该光光刻胶组合物，按重量份数计，包括如下原料：无机纳米粒子5～25份，光可固化单体A1～10份，光可固化单体B1～10份，光引发剂1.5～4份，表面活性剂0.01～0.5份，溶剂25～75份；光可固化单体A为酸性光可固化单体，并采用通式1所示结构。本发明通过调控各原料之间的配比，且无机纳米粒子表面有丙烯酸酯类配体修饰，根据相似相容原理，含羧基的丙烯酸酯单体和多官能可光固化单体的混合物与无机纳米粒子之间有良好的相容性，使负性高折射率OC光刻胶具有优良的储存稳定性，提高了固化图案的折射率和透过率。

主权项：1.一种负性高折射率OC光刻胶组合物，其特征在于，按重量份数计，包括如下原料：无机纳米粒子5～25份，光可固化单体A1～10份，光可固化单体B1～10份，光引发剂1.5～4份，表面活性剂0.01～0.5份，溶剂25～75份；所述光可固化单体A为酸性光可固化单体。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 西安思摩威新材料有限公司 负性高折射率OC光刻胶组合物、光固化图案的制备方法及应用

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