申请/专利权人：皇家飞利浦有限公司

申请日：2021-05-26

公开（公告）日：2024-01-09

公开（公告）号：CN114650774B

主分类号：A61B6/00

分类号：A61B6/00;G06T7/80;G01N23/041;A61B6/40;A61B6/42;A61B6/58

优先权：["20200609 EP 20178885.8"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.01.09#授权;2022.07.08#实质审查的生效;2022.06.21#公开

摘要：本发明涉及一种用于处理由暗场和或相衬X射线成像系统采集的数据的装置10，所述装置包括输入单元20以及处理单元30。所述输入单元被配置为向所述处理单元提供由包括干涉测量装置和探测器的暗场和或相衬X射线成像系统采集的空白扫描条纹数据。所述输入单元被配置为向所述处理单元提供由所述暗场和或相衬X射线成像系统采集的样本扫描条纹数据，其中，要成像的对象被定位于所述暗场和或相衬X射线成像系统内。所述处理单元被配置为预处理所述空白扫描条纹数据以确定经预处理的空白扫描条纹数据，包括对有效点扩散函数“PSF”的利用。所述处理单元被配置为预处理所述样本扫描条纹数据以确定经预处理的样本扫描条纹数据，包括对所述有效点扩散函数“PSF”的利用。所述有效PSF已经针对所述暗场和或相衬X射线成像系统被确定。

主权项：1.一种用于处理由暗场和或相衬X射线成像系统采集的数据的装置10，所述装置包括：-输入单元20；以及-处理单元30；其中，所述输入单元被配置为向所述处理单元提供由包括干涉测量装置和探测器的暗场和或相衬X射线成像系统采集的空白扫描条纹数据；其中，所述输入单元被配置为向所述处理单元提供由所述暗场和或相衬X射线成像系统采集的样本扫描条纹数据，其中，要成像的对象被定位于所述暗场和或相衬X射线成像系统内；其中，所述处理单元被配置为对所述空白扫描条纹数据进行预处理以确定经预处理的空白扫描条纹数据，包括对有效点扩散函数PSF的利用；其中，所述处理单元被配置为对所述样本扫描条纹数据进行预处理以确定经预处理的样本扫描条纹数据，包括对所述有效点扩散函数PSF的利用；并且其中，所述有效点扩散函数PSF已经针对所述暗场和或相衬X射线成像系统被确定，以减少探测器通道之间的串扰和所述暗场和或相衬X射线成像系统内的散射。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 皇家飞利浦有限公司 用于处理由暗场和/或相衬X射线成像系统采集的数据的装置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD