申请/专利权人：分子印记公司

申请日：2017-08-24

公开（公告）日：2024-01-23

公开（公告）号：CN114675359B

主分类号：G02B5/18

分类号：G02B5/18;G02B5/00;G02B25/00

优先权：["20160826 US 62/380,066"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.01.23#授权;2022.07.15#实质审查的生效;2022.06.28#公开

摘要：描述了使用围限结构和或图案光栅减少或防止密封剂聚合物例如胶水芯吸到多层光学组装件的光学活性区中的技术。多层光学结构可包括压印了波导光栅图案的多个衬底层。可以使用封边胶，如树脂、环氧树脂、胶水等固定所述多个层。可沿各层的边缘压印围限结构，如边缘图案以控制和围限封边胶的毛细流动并防止封边胶芯吸到这些层的功能波导光栅图案中。此外，封边胶可用碳掺杂或以其它方式加黑以减少光从边缘反射回层内部，由此改进该组装件的光学功能。

主权项：1.一种光学结构，其包含：衬底，所述衬底包括形成衬底的光学功能区的第一光栅图案；和在衬底上且邻近衬底边缘的第二光栅图案，第二光栅图案包含围绕衬底整个周边形成的第一构件和围绕衬底整个周边形成的第二构件，其中第一构件和第二构件排列成通过将材料围限在第二光栅图案中而控制材料从衬底边缘毛细流动，从而抑制材料毛细流动进入到衬底的光学功能区。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 分子印记公司 用于光学器件的边缘密封剂围限和光晕减轻

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