申请/专利权人：应用材料公司

申请日：2022-05-05

公开（公告）日：2024-01-26

公开（公告）号：CN117461113A

主分类号：H01L21/033

分类号：H01L21/033;H01L21/311

优先权：["20210630 US 63/217,062"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.01.26#公开

摘要：本文公开了一种在光刻胶中形成金属氧化物以改良轮廓控制的方法。该方法包括通过在接近膜堆叠物的处理环境中对含甲基材料加压，而在光刻胶层中渗透金属氧化物。膜堆叠物包括光刻胶层，光刻胶层设置在底层的顶部并与底层接触。底层设置在基板的顶部。该方法包括蚀刻包括注入有金属氧化物的光刻胶层的膜堆叠物。

主权项：1.一种渗透光刻胶层的方法，所述方法包括以下步骤：通过在接近膜堆叠物的处理环境中加热含甲基材料，而在所述光刻胶层中形成金属氧化物，所述膜堆叠物包括：设置在底层顶部并与所述底层接触的所述光刻胶层，设置在基板顶部的所述底层；及蚀刻包括注入有所述金属氧化物的所述光刻胶层的所述膜堆叠物。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料公司 金属氧化物渗入光刻胶中的方法

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