申请/专利权人：苏州大学;上海航天设备制造总厂有限公司

申请日：2023-11-10

公开（公告）日：2024-02-23

公开（公告）号：CN117583469A

主分类号：B21D35/00

分类号：B21D35/00;B21D37/10

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.03.12#实质审查的生效;2024.02.23#公开

摘要：本发明涉及一种刻痕膜片模压、校形一体化成型装置，包括：下模座、凹模垫板、凹模固定板、凹模、浮动卸料板、上模座、凸模垫板、凸模固定板、上模板、凸模一和凸模二，凹模的上端面上设有成型凹槽，凸模二的下端面上设有刻痕成型凸部，上模板与凹模合模过程中，刻痕成型凸部用于在刻痕膜片上形成刻痕，凸模一用于压动刻痕膜片至成型凹槽内形成压痕。本发明所述的刻痕膜片模压、校形一体化成型装置，将刻痕膜片的模压成形、校形于一体，解决刻痕膜片二次校形带来的负面影响；采用变截面凸模、变厚度垫板或固定板等、减少应力集中等设计，尽可能消除模具核心构件自身弹性变形对刻痕成形精度和一致性等影响。

主权项：1.一种刻痕膜片模压、校形一体化成型装置，其特征在于，包括：下模座；凹模垫板，其固定设置在下模座的上端面上；凹模固定板，其设置在凹模垫板的上端面上；凹模，其设置在凹模固定板上；并且所述凹模的上端部延伸出凹模固定板，所述凹模延伸出凹模固定板的上端部设置有待加工的刻痕膜片；浮动卸料板，其与凹模固定板滑动连接，并且所述浮动卸料板远离凹模固定板时，所述浮动卸料板用于凹模内待加工的刻痕膜片的卸料；上模座，其位于下模座的正上方；凸模垫板，其与上模座的下端面固定连接；凸模固定板，其与凸模垫板的下端面连接；上模板，其与凸模固定板的下端面连接；凸模一，其上端部设置在凸模垫板内；凸模二，其上端部与凸模固定板连接，并且凸模二的下端部延伸至上模板内，所述凸模一位于凸模二的中心线位置处，并且凸模一的下端部贯穿凸模二，所述凹模的上端面上设有成型凹槽，所述凸模二的下端面上设有刻痕成型凸部，所述上模板与凹模合模过程中，所述刻痕成型凸部用于在刻痕膜片上形成刻痕，所述凸模一用于压动刻痕膜片至成型凹槽内形成压痕。

全文数据：

权利要求：

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