申请/专利权人：世源科技工程有限公司;中国电子工程设计院股份有限公司

申请日：2023-11-27

公开（公告）日：2024-03-01

公开（公告）号：CN117623530A

主分类号：C02F9/00

分类号：C02F9/00;C02F1/00;C02F1/52;C02F1/72;C02F1/42;C02F1/44;C02F1/20;C02F1/32;C02F103/34;C02F101/30;C02F5/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.03.19#实质审查的生效;2024.03.01#公开

摘要：本发明公开了一种深度降解TOC的超纯水制备工艺系统及方法，包括预处理系统、除盐系统和抛光系统；向原水中添加氧化剂，在原水箱内设置稀有气体‑卤素准分子灯，向软化水中添加H2O2，在软化水箱内设置紫外发光二极管UV‑LED，在第一去除TOC装置前添加H2O2，采用多级紫外高级氧化工艺深度降解有机物；在过滤器内设置轻质颗粒滤料和活性炭颗粒滤料，节省了大阻力排水系统；采用负载钯的陶瓷膜去除H2O2，能避免UV185去除有机物装置产生的H2O2氧化后续工艺的树脂。采用无汞光源，绿色环保。本工艺处理方法与现有超纯水处理工艺契合能力强，可以通过现有条件对纯水站进行升级改造，便于工业化大规模推广和应用。

主权项：1.一种深度降解TOC的超纯水制备工艺系统，其特征在于，该系统包括：预处理系统，所述预处理系统接收原水，通过预处理系统进行预处理制得预处理水；位于所述预处理系统下游的除盐系统，所述除盐系统接收所述预处理系统处理的预处理水并处理制得纯水；以及位于所述除盐系统下游的抛光系统，所述抛光系统接收所述除盐系统处理的纯水经进一步深度处理制得超纯水、并供至使用点25；所述预处理系统按照工艺流程依次包括：原水箱1、过滤器2和过滤水箱3；原水进入所述原水箱1前向原水箱进水管104内投加氧化剂；原水箱1出水进入所述过滤器2前向过滤器进水管210内投加混凝剂；所述除盐系统按照工艺流程依次包括：阳离子交换塔4、第一过滤器5、脱碳塔6、阴离子交换塔7、软化水箱8、锰砂滤池9、第二过滤器10、反渗透装置11、反渗透水箱12、第一除TOC装置13、第一陶瓷膜14、混床15、混床过滤器16、第一脱气膜17和纯水箱18；所述阴离子交换塔7的出水进入所述软化水箱8前向软化水箱进水管803内投加H2O2；所述锰砂滤池9内部具有二氧化锰含量大于45％的滤料；所述第一陶瓷膜14为负载钯的陶瓷膜；所述抛光系统按照工艺流程依次包括：第二除TOC装置19、第二陶瓷膜20、抛光混床21、抛光混床过滤器22、第二脱气膜23和终端超滤装置24；所述第二陶瓷膜20为负载钯的陶瓷膜；所述使用点25通过循环管道将超纯水回流至所述纯水箱18储存。

全文数据：

权利要求：

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