申请/专利权人：上海勘测设计研究院有限公司

申请日：2023-12-14

公开（公告）日：2024-03-08

公开（公告）号：CN117668998A

主分类号：G06F30/13

分类号：G06F30/13;G06F30/20

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.03.26#实质审查的生效;2024.03.08#公开

摘要：本发明公开了一种地下洞室顶拱块体稳定性的赤平投影图形分析方法，将地下洞室的顶拱上段概化面按下半球投影到吴氏网上，形成顶拱上段投影圆弧线，并将顶拱下段概化面投影到吴氏网上，形成顶拱下段投影圆弧线；将地下洞室岩体发育的各结构面投影到吴氏网上，形成相应的结构面投影圆弧线，并在相应结构面投影圆弧线处标注结构面的编号和跨距比，并将结构面临界等效摩擦角投影到吴氏网上，形成摩擦圆，且结构面投影圆弧线之间组合形成块体，结构面投影圆弧线的交点构成块体角点；通过分析块体的各块体角点与顶拱上段投影圆弧线、顶拱下段投影圆弧线以及摩擦圆的关系，定性分析块体的稳定性。本发明能定性评价地下洞室顶拱部位块体的稳定性。

主权项：1.一种地下洞室顶拱块体稳定性的赤平投影图形分析方法，其特征在于，包括以下步骤：S1-1、将地下洞室1的延伸方向线按下半球投影到吴氏网上，形成洞向投影线5；S1-2、将地下洞室1的顶拱总曲面沿洞轴线方向一分为二，形成相对洞轴线对称分布的两个顶拱曲面，每个所述顶拱曲面由顶拱曲面上段和顶拱曲面下段组成，将所述顶拱曲面上段概化为顶拱上段概化面2，并将所述顶拱曲面下段概化为顶拱下段概化面3，其中所述顶拱下段概化面3与水平面之间的夹角大于相应一侧顶拱上段概化面2与水平面之间的夹角；将所述顶拱上段概化面2按下半球投影到吴氏网上，形成顶拱上段投影圆弧线6，并将所述顶拱下段概化面3按下半球投影到吴氏网上，形成顶拱下段投影圆弧线7；S1-3、将结构面临界等效摩擦角按下半球投影到吴氏网上，形成摩擦圆8，并将地下洞室1岩体发育的各结构面按下半球投影到吴氏网上，形成相应的结构面投影圆弧线9，并在相应所述结构面投影圆弧线9处标注结构面的编号和跨距比；S2、由三条或四条结构面投影圆弧线9围成的封闭区域，形成待判定稳定性的块体，其中三条或四条结构面投影圆弧线9的交点构成所述块体在吴氏网大圆4平面上的块体角点10；S3、通过所述块体的各块体角点10与顶拱上段投影圆弧线6、顶拱下段投影圆弧线7、摩擦圆8以及吴氏网大圆圆心O的相对位置关系，定性分析所述块体的稳定性。

全文数据：

权利要求：

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