申请/专利权人：信越化学工业株式会社

申请日：2021-07-20

公开（公告）日：2024-03-08

公开（公告）号：CN117677888A

主分类号：G02B27/20

分类号：G02B27/20;B23K26/00;B23K26/06;B23K26/064;B23K26/066;G02B27/09;G02B26/10

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.03.26#实质审查的生效;2024.03.08#公开

摘要：本发明中，通过扫描型缩小投影光学系统将供体基板上的微小元件以高的位置精度向相向的受体基板上进行激光诱导向前转移，所述扫描型缩小投影光学系统将横多模的脉冲激光光经由透镜阵列型的缩放匀光器、阵列掩模10、扫描镜4、光掩模6、远心投影透镜8在供体基板上以微小区的尺寸成像。作为其实施工序，评价用以获取位置信息的检查、激光诱导向前转移区分割、照射位置选择、转印、台移动的各工序。由此，能以低成本提供扫描型缩小投影光学系统、及搭载有其的封装用或再转印用的激光诱导向前转移装置等，而且也可提供其实施方法，所述扫描型缩小投影光学系统不使用大口径的昂贵的fθ透镜或远心缩小投影透镜，可弥补扫描仪的精度不足，并且将具有均匀且无变动的能量分布的微小的照射区以广范围高精度且高速地扫描。

主权项：1.一种扫描型缩小投影光学系统，其特征在于，为用于激光加工装置中的光学系统，所述激光加工装置利用下述原理：向位于基板上的照射对象物照射多模脉冲激光光而诱发反应，且所述扫描型缩小投影光学系统具有透镜阵列型的缩放匀光器、扫描镜、光掩模及至少像侧为远心的投影透镜系统，在所述光掩模以规定的间距排列有多个规定形状的开口，所述缩放匀光器包含具有第一透镜阵列及第二透镜阵列、以及聚光透镜的结构，所述缩放匀光器将覆盖所述光掩模上的一个以上的邻接的开口群的规定尺寸的照射区在所述光掩模上成像，所述缩放匀光器补偿所述照射区的位置及尺寸以及所述照射区内的能量强度分布的变动，所述规定尺寸为所述照射区不到达与所述开口群邻接的其他任一开口的尺寸，所述扫描镜由一轴以上的驱动轴控制装置进行扫描。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 信越化学工业株式会社 扫描型缩小投影光学系统及使用其的激光加工装置

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