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【发明公布】一种新型TPMS晶格结构3D打印头盔内衬缓冲结构_浙江工业大学_202311635945.6 

申请/专利权人:浙江工业大学

申请日:2023-12-01

公开(公告)日:2024-03-08

公开(公告)号:CN117652748A

主分类号:A42B3/12

分类号:A42B3/12

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.03.26#实质审查的生效;2024.03.08#公开

摘要:一种新型TPMS晶格结构3D打印头盔内衬缓冲结构,涉及冲击吸能缓冲减震结构领域,晶格胞元在缓冲层中的分布包括从胞元尺寸到壁厚的多重梯度变化,具体梯度变化表现为从外层表面向内层表面的胞元尺寸由变化因子控制线性减少与壁厚的线性增加,允许外层表面胞元在受冲击时快速反应并发生大变形吸收第一波冲击力并将能量向内层延申,进而达到缓冲吸能的效果,同时内层胞元尺寸的减小与壁厚的增加可以在能量传递的过程中逐渐消散并减少结构变形。本发明在提高内层稳定性的同时减少滑移间隙,从而对头部核心部位提供更好的保护。

主权项:1.一种新型TPMS晶格结构3D打印头盔内衬缓冲结构,其特征在于,使用TPMS晶格结构生成3D打印头盔内衬结构,通过控制壁厚变化因子,使得组成头盔内衬的每一个晶格的尺寸和壁厚随着设定梯度方向发生变化而呈线性规律;整体胞元尺寸与厚度均呈梯度变化,且整体分为内层表面和外层表面,且所述外层表面与内层表面之间允许由于冲击产生的滑移现象并允许能量随胞壁向内传递消散。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 浙江工业大学 一种新型TPMS晶格结构3D打印头盔内衬缓冲结构

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