申请/专利权人：上海交通大学

申请日：2023-07-25

公开（公告）日：2024-03-12

公开（公告）号：CN116978495B

主分类号：G16C60/00

分类号：G16C60/00;G06F30/25

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.12#授权;2023.11.17#实质审查的生效;2023.10.31#公开

摘要：一种基于分层靶件的稀缺同位素辐照生产能谱最优化方法，通过构建反应堆模型，对不同半径的靶件进行临界计算并根据得到的能谱总价值量化不同半径的靶件在径向上的能谱自屏效应；再通过能谱扰动处理获得最优材料组合，用于靶件的各个分层，实现能谱自屏效应的抑制。本发明能够实现能谱总价值沿径向的展平，将靶件所有区域的能谱最优化，提升同位素辐照生产的效率。

主权项：1.一种基于分层靶件的稀缺同位素辐照生产能谱最优化方法，其特征在于，通过构建反应堆模型，对不同半径的靶件进行临界计算并根据得到的能谱总价值量化不同半径的靶件在径向上的能谱自屏效应；再通过能谱扰动处理获得最优材料组合，用于靶件的各个分层，实现能谱自屏效应的抑制；所述的能谱扰动处理，即使用特定材料来实现能谱扰动，分析该材料用于能谱扰动的效果，具体为：在反应堆模型的靶件外包围一圈特定材料后进行蒙卡临界计算，计算添加该特定材料前后，靶件处的能谱变化；所述的分层，即靶件进行分层设计，具体为：将靶件由内到外分成宽度相同的10层，分别定义为第1、2、…、10层，并且在第1、3、5、7、9层布置通过能谱扰动处理获得最优材料组合；所述的靶件处的能谱变化，进一步通过调整分层靶件设计的设计参数，得到最优的靶件设计方案：对靶件的半径、分层的厚度、特定材料的布置量进行调整，并且通过蒙卡程序计算靶件分层方案的生产效率；通过设计参数的调整来实现靶件沿径向的能谱自屏效应最小化，实现能谱总价值沿径向的展平，实现靶件内所有区域的能谱最优化。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海交通大学 基于分层靶件的稀缺同位素辐照生产能谱最优化方法

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