申请/专利权人：弗萨姆材料美国有限责任公司

申请日：2022-06-03

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117730107A

主分类号：C08F30/02

分类号：C08F30/02;H01L21/768;H01L21/304;C09K3/14;C09G1/02;C08G79/06

优先权：["20210610 US 63/209,306"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要：公开了鏻基聚合物的合成。化学机械平面化CMP浆料包含研磨剂；活化剂；氧化剂；包含鏻基聚合物的添加剂；和水。在CMP浆料中使用合成的鏻基聚合物减少了高选择性钨浆料中的凹陷和腐蚀。

主权项：1.一种由至少一种含有至少一个鏻基团的阳离子单体形成的阳离子聚合物或共聚物，其中该阳离子单体包含选自以下的结构：1 其中：该至少一个鏻基团在所述阳离子聚合物或共聚物的主链中；R1和R2各自独立地是取代的或未取代的脂族、支链脂族或环状脂族、芳族或杂芳族部分；其中不在所述芳族或杂芳族环中的CH2可以被O、S或N以没有杂原子相互连接的方式替代；R3是取代的或未取代的脂族、支链脂族或环状脂族、芳族、杂芳族或硅氧烷部分；其中不在所述芳族或杂芳族环中的CH2可以被O、S或N以没有杂原子相互连接的方式替代；并且氢可以被F、Cl或CN替代；阴离子X-选自卤素阴离子，其中该卤素阴离子选自F-、Cl-、Br-和I-；BF4-；PF6-；羧酸根RCOO-，其中R＝H、烷基或芳基；丙二酸根；柠檬酸根；富马酸根；磺酸根RSO3-，其中R＝H、烷基或芳基；CF3COO-；CF3SO3-；硝酸根；硫酸根；碳酸根；和碳酸氢根；2 其中：所述至少一个鏻基团在所述阳离子聚合物或共聚物的一个或多个侧链中；Sp在每次出现时表示间隔基或单键，其将所述至少一个鏻基团化学连接到所述阳离子聚合物或共聚物的主链上；其中所述间隔基是具有1至20个、优选地1至10个碳原子的取代的或未取代的烷基链，并且任选地被F、Cl、Br、I或CN单取代或多取代；其中一个或多个不相邻的CH2基团各自可以独立地被-O-、-S-、-NH-、-NR-以没有杂原子相互连接的方式替代；Pol表示所述阳离子聚合物或共聚物的主链，且主链类型选自于乙烯基、苯乙烯、丙烯酸或甲基丙烯酸、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、乙二醇、乙烯基醚、硅氧烷、苯酚、降冰片烯型主链及其组合；R1、R2、R3各自独立地是取代的或未取代的脂族、支链脂族或环状脂族、芳族或杂芳族部分；其中不在所述芳族或杂芳族环中的CH2可以被O、S或N以没有杂原子相互连接的方式替代；并且氢可以被F、Cl或CN替代；和阴离子X-选自卤素阴离子，该卤素阴离子选自F-、Cl-、Br-和I-；BF4-；PF6-；羧酸根RCOO-，其中R＝H、烷基或芳基；丙二酸根；柠檬酸根；富马酸根；磺酸根RSO3-，其中R＝H、烷基或芳基；CF3COO-；CF3SO3-；硝酸根；硫酸根；碳酸根；和碳酸氢根；和31和2的组合。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 弗萨姆材料美国有限责任公司 用作化学机械平面化浆料的添加剂的鏻基聚合物和共聚物

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