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【发明授权】一种基于加速器的同位素生产固液耦合靶装置_中子高新技术产业发展(重庆)有限公司_202310274417.6 

申请/专利权人:中子高新技术产业发展(重庆)有限公司

申请日:2023-03-20

公开(公告)日:2024-03-19

公开(公告)号:CN116705375B

主分类号:G21G1/10

分类号:G21G1/10;G21G1/06

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.19#授权;2023.09.22#实质审查的生效;2023.09.05#公开

摘要:本发明涉及生产同位素的技术领域,具体提供一种基于加速器的同位素生产固液耦合靶装置,旨在解决加速器生产同位素的产量较低,生产效率低、进而造成生产成本高的问题。为此目的,本发明的基于加速器的同位素生产固液耦合靶装置包括:加速器、屏蔽体和同位素生产组件;加速器用于产生质子束流;屏蔽体具有相连通的质子束流通道和内腔,用于质子束流进入;同位素生产组件设置于内腔,用于多次生产同位素。本发明的基于加速器的同位素生产固液耦合靶装置包括加速器、屏蔽体和同位素生产组件,同位素生产组件能够多次生产同位素,提高生产效率,提高同位素生产产量,进而节省生产成本。

主权项:1.一种基于加速器的同位素生产固液耦合靶装置,其特征在于,所述装置包括加速器、屏蔽体和同位素生产组件;所述加速器用于产生质子束流;所述屏蔽体具有相连通的质子束流通道和内腔,用于所述质子束流进入;所述同位素生产组件设置于所述内腔,以便所述质子束流辐照,用于多次生产同位素;所述同位素生产组件包括第一固态靶片、第一液态靶,第一倍增层、第一慢化层和第二液态靶;所述第一固态靶片设置于所述内腔并和所述质子束流通道相抵,以便所述质子束流辐照产生第一中子;所述第一液态靶设置于所述内腔并和所述第一固态靶片相邻,用于和所述第一中子产生反应,以生产同位素和第二中子;所述第一倍增层设置于所述内腔并和所述第一液态靶相邻,用于对所述第二中子进行倍增反应;所述第一慢化层设置于所述内腔并和所述第一倍增层相邻,用于对倍增反应后的所述第二中子进行慢化处理;所述第二液态靶设置于所述内腔并和所述第一慢化层相邻,用于和所述第二中子产生反应,以生产同位素和第三中子;所述同位素生产组件还包括第二倍增层、第二慢化层和第三液态靶;所述第二倍增层设置于所述内腔并和所述第二液态靶相邻,用于对所述第三中子进行倍增反应;所述第二慢化层设置于所述内腔并和所述第二倍增层相邻,用于对倍增反应后的所述第三中子进行慢化处理;所述第三液态靶设置于所述内腔并和所述第二慢化层相邻,用于和所述第三中子产生反应,以生产同位素和第四中子;所述同位素生产组件还包括第二固态靶片;所述第二固态靶片设置于所述内腔并和所述第三液态靶相邻,用于和所述第四中子产生反应,以生产同位素;所述装置还包括循环系统,其包括液态靶传输系统、换热系统和驱动泵;所述驱动泵分别和所述第一液态靶、所述第二液态靶、所述第三液态靶连接,用于将所述第一液态靶、所述第二液态靶、所述第三液态靶驱动并汇集形成整体液态靶;所述换热系统和所述驱动泵连接,用于对所述整体液态靶降温;所述液态靶传输系统和所述换热系统连接,以便降温后的所述整体液态靶进入所述屏蔽体的内腔形成新的第一液态靶、第二液态靶、第三液态靶。

全文数据:

权利要求:

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