申请/专利权人：应用材料公司

申请日：2019-05-15

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN112272797B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027

优先权：["20180628 US 16/021,350"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权;2021.02.12#实质审查的生效;2021.01.26#公开

摘要：本案描述的实施方式提供了一种在数字光刻工艺期间偏移掩模图案数据的方法，以减少曝光图案的线波动。所述方法包括将具有多个曝光多边形的掩模图案数据提供给数字光刻系统的处理单元。处理单元具有多个图像投射系统，其接收掩模图案数据。每个图像投射系统对应于基板的多个部分的一部分，并接收对应于所述部分的曝光多边形。在多个图像投射系统下扫描基板，且在偏移掩模图案数据时将多个发射投射到所述多个部分。多个发射的每个发射在对应于所述部分的曝光多边形内。

主权项：1.一种偏移图案以减少线波动的方法，包括：将具有多个曝光多边形的掩模图案数据提供给数字光刻系统的处理单元，所述处理单元具有：多个图像投射系统，所述多个图像投射系统接收所述掩模图案数据，每个图像投射系统对应于基板的多个部分的一部分并接收对应于所述部分的曝光多边形数据集；及在所述多个图像投射系统下扫描所述基板，且在偏移所述掩模图案数据时将多个发射投射到所述多个部分，所述多个发射的每个发射在对应于所述部分的所述曝光多边形内，偏移所述掩模图案数据包含以一偏移频率将所述掩模图案数据偏移到最大偏移和最小偏移之间的位置。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料公司 偏移图案以减少线波动

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