申请/专利权人：应用材料公司

申请日：2018-05-23

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN110692121B

主分类号：H01L21/285

分类号：H01L21/285;H01L21/02;H01L21/324;H01L21/67

优先权：["20170525 US 15/605,769"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权;2020.02.11#实质审查的生效;2020.01.14#公开

摘要：与用于处理在工件上的钨膜的工艺相关的方法和系统包括：将工件支撑在腔室中；将氢气引入腔室中且建立至少5个大气压的压力；并且当腔室中的压力是至少5个大气压时，将工件上的钨膜暴露于氢气。

主权项：1.一种处理工件上的钨膜的方法，包括：将所述工件支撑在腔室中；将氢气引入所述腔室中；在所述腔室中建立至少5个大气压的压力；当在所述腔室中的所述压力是至少5个大气压时，将所述工件上的所述钨膜暴露于所述氢气，其中所述钨膜包括在所述钨膜的表面上或嵌入在所述钨膜内的氟；通过将所述钨膜暴露于所述氢气而在所述钨膜上形成原子氢；并且由所述原子氢和所述氟形成氟化氢。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料公司 通过高压处理的钨脱氟

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