申请/专利权人：郑州格矽科技发展有限公司

申请日：2023-12-21

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117732381A

主分类号：B01J12/00

分类号：B01J12/00;C01B33/18;C01B3/22;B01J4/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明公开了一种利用硅烷气体制造高纯二氧化硅的反应器，包括反应筒、氢气分散环、蒸汽分散环和硅烷分散环；反应筒：其左右两端均固定连接有法兰连接环；氢气分散环：其固定连接于反应筒的左端内部；蒸汽分散环：其设置于氢气分散环的内部；硅烷分散环：其设置于蒸汽分散环的内部，该利用硅烷气体制造高纯二氧化硅的反应器，装置通过将硅烷和蒸汽一同喷洒至反应装置内部，通过水解反应产出气相二氧化硅和氢气，且水解过程中不需要氢气参与，使反应温度大幅度降低且不在产生氯化氢气体，使后续不需要对二氧化硅进行脱酸处理，且通过高速氢气带动使产生的二氧化硅和氢气排出至外部聚集设备内。

主权项：1.一种利用硅烷气体制造高纯二氧化硅的反应器，其特征在于：包括反应筒1、氢气分散环3、蒸汽分散环4和硅烷分散环5；反应筒1：其左右两端均固定连接有法兰连接环2；氢气分散环3：其固定连接于反应筒1的左端内部；蒸汽分散环4：其设置于氢气分散环3的内部；硅烷分散环5：其设置于蒸汽分散环4的内部。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 郑州格矽科技发展有限公司 一种利用硅烷气体制造高纯二氧化硅的反应器

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