申请/专利权人：肯纳金属公司

申请日：2023-04-03

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117737648A

主分类号：C23C14/06

分类号：C23C14/06;C23C14/35;B25H3/04

优先权：["20220921 DE 102022124181.5"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.03.22#公开

摘要：本发明涉及一种用于产生经涂覆的主体10的方法，所述经涂覆的主体具有衬底12和布置在所述衬底12上的涂层11，所述涂层包括施加于所述衬底12的至少一个基础层16和布置在所述基础层16上方的至少一个含金属碳化物的层14，所述层通过磁控溅射施加。此外，本发明涉及根据所述方法产生的经涂覆的主体。

主权项：1.一种用于产生经涂覆的主体10的方法，其中所述主体包括衬底12和布置在所述衬底12上的涂层11，所述涂层包括施加于所述衬底12的至少一个基础层16和布置在所述基础层16上方的至少一个含金属碳化物的层14，其中所述基础层16由铝和至少一种另外的金属的氮化物形成，其中所述另外的金属选自由以下组成的组：Ti、Cr、Si、Zr以及其组合，其中所述含金属碳化物的层14包括选自由以下组成的组的金属的至少一种碳化物：钛、钒、铬、铌、钼、钽和钨以及其组合，其中所述含金属碳化物的层14的碳含量在40-65原子％的范围内，并且其中所述方法包括以下步骤：-将所述基础层16施加于所述衬底12，其中在所述基础层16的所述施加期间，将在-50至-200V的范围内的脉冲电压施加于所述衬底；以及-通过磁控溅射在所述基础层16上方施加所述含金属碳化物的层14，其中在所述含金属碳化物的层14的所述施加期间，将所述衬底12保持在-50至-200V的范围内的恒定电压下，并且其中使用石墨靶将所述含金属碳化物的层14施加于与所述石墨靶分离的金属靶上。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 肯纳金属公司 用于产生经涂覆的主体的方法以及根据所述方法可获得的经涂覆的主体

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