申请/专利权人：北京工业大学

申请日：2023-12-26

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117742073A

主分类号：G03F7/00

分类号：G03F7/00;G02B1/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明公开了一种基于纳米压印套刻制备不同结构金属光子晶体的方法，包括以下步骤：S1、配置金纳米溶液：取用Burst法合成的油相金纳米颗粒，加入有机溶剂，超声15min后，磁力搅拌30min，配制成浓度为50‑100mgml的金纳米溶液；S2、将ITO基片放置在100℃的加热台上，ITO基片与加热台边缘平行，加热5‑10s；取10‑20μL步骤S1中配制好的金纳米溶液，滴在ITO基片上，将纳米周期结构的PDMS模板按压在ITO基片上，维持1‑3min，使金纳米溶液充分渗透在ITO基片和PDMS模板之间。本发明采用上述一种基于纳米压印套刻制备不同结构金属光子晶体的方法，结合不同浓度的金纳米溶液，将大面积不同结构的纳米环、纳米岛、纳米线结合在同一基底上，可以实现不同纳米结构的金属光子晶体的制备。

主权项：1.一种基于纳米压印套刻制备不同结构金属光子晶体的方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、取用Burst法合成的油相金纳米颗粒，加入有机溶剂中，配制成浓度为50-100mgml的金纳米胶体溶液；S2、将ITO基片放置在100℃的加热台上，ITO基片与加热台边缘平行，加热5-10s；取10-20μL步骤S1中配制的金纳米胶体溶液滴在ITO基片上，将具有纳米周期结构的PDMS模板按压在ITO基片上，维持1-3min，使金纳米溶液充分渗透在ITO基片和PDMS模板之间；S3、将压印好的ITO基片从加热台上取下，在室温下冷却1-3min，将PDMS模板和ITO基底分开，即可在ITO基片上得到与PDMS模板互补的纳米周期结构；S4、压印有纳米周期结构的ITO基片放入到300-400℃的马弗炉中退火15-20min，使金纳米颗粒在局域内融化，形成金纳米结构的金属光子晶体；S5、退火结束后在室温下冷却3-5min，将压印有纳米周期结构的ITO基片再次放置在100℃的加热台上，将压印有纳米周期结构的ITO基片偏转角度，将纳米周期结构的PDMS模板按压在压印有纳米周期结构的ITO基片上，维持1-3min，重复步骤S3-S4的操作，得到不同结构的套刻在同一基片上的金属光子晶体。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京工业大学 一种基于纳米压印套刻制备不同结构金属光子晶体的方法

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