申请/专利权人：芯恩(青岛)集成电路有限公司

申请日：2022-09-26

公开（公告）日：2024-03-26

公开（公告）号：CN117761972A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.12#实质审查的生效;2024.03.26#公开

摘要：本发明公开了一种控制曝光机台与涂胶显影机台之间压差值的方法及系统，所述方法包括设定曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差的阈值范围，检测曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差，将曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差与设定的阈值范围进行对比，判断压力差是否处于阈值范围内，根据判断结果确定是否对曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差进行调整。进而，本发明能够保证曝光机台内温度及压力的稳定性，避免出现由于曝光机台内温度以及压力的变化导致的产率以及良率的下降，并有效预防了由于机台间压差引起的死机的情况的出现。

主权项：1.一种控制曝光机台与涂胶显影机台之间压差值的方法，其特征在于，包括以下步骤：S101：设定所述曝光机台与所述涂胶显影机台之间的压力差的阈值范围；S102：检测所述曝光机台与所述涂胶显影机台之间的压力差；S103：将所述曝光机台与所述涂胶显影机台之间的压力差与设定的所述阈值范围进行对比，判断所述压力差是否处于所述阈值范围内；S104：根据判断结果确定是否对所述曝光机台与所述涂胶显影机台之间的压力差进行调整。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 芯恩(青岛)集成电路有限公司 控制曝光机台与涂胶显影机台之间压差值的方法及系统

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