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【发明授权】提高pass数改善色块均匀性的方法、设备及存储介质_广州市森扬电子科技有限公司_202311710426.1 

申请/专利权人:广州市森扬电子科技有限公司

申请日:2023-12-12

公开(公告)日:2024-03-26

公开(公告)号:CN117453163B

主分类号:G06F3/12

分类号:G06F3/12;B41J29/393

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.26#授权;2024.02.13#实质审查的生效;2024.01.26#公开

摘要:本发明公开了提高pass数改善色块均匀性的方法、设备及存储介质;包括步骤:S1:确认喷头有效输出孔数、S2:根据分辨率和喷头的横向纵向打印分辨率换算出pass数和S3:按prn数据的打印规律;本发明通过通过生成互补的模板A和B,并按照打印数据规律进行与运算,可以避免喷头断针和斜喷带来的规律性白线,在每个pass中,根据模板和打印数据进行与运算,使得白线部分被正确填充颜色,从而消除规律性白线,且动态调整模板可以根据喷头使用时间长、环境温湿度等因素的变化,实时监测打印品质和色块均匀性,并对模板进行自适应调整,通过调整模板,优化色块的分布和均匀性,从而减少拉丝现象的出现。

主权项:1.一种提高pass数改善色块均匀性的方法,其特征在于:包括如下步骤:S1:确认喷头有效输出孔数,对应单色,确认prn的打印分辨率和打印宽度,根据信息通过误差扩散法接口生成两个数据模板A和B,A和B是互补的两个模板,有效数据分别占总数据量的50%;S2:根据分辨率和喷头的横向纵向打印分辨率换算出pass数;S3:按prn数据的打印规律,每pass取的打印数据根据规律与模板的数据做与运算;根据步骤S2所述根据分辨率和喷头的横向纵向打印分辨率换算出pass数,换算方式为:pass=prnXDPIpassXDPI*prnYDPIheadYDPI*2;确定在一个pass数循环内,每个pass要取的prn打印数据规律;设定打印360x720分辨率,喷头横向纵向打印分辨率分别是360,360,换算得到pass数是4,则规律是lineIndex=passSeq2%pass;lineIndex表示当前passSeq需要打印的数据位置;根据步骤S3所述的每pass取的打印数据根据规律与模板的数据做与运算,且在步骤S2基础上,得到当前对应pass应该打印的数据,其中运算方式为:设定当前pass的序号为n从0开始,模板A和B中的数据分别表示为TemplateA和TemplateB;对模板A和B进行逐像素的运算,对于模板A:ResultA=TemplateA2n-1这里的表示按位与运算,即对模板A中的每个像素值与2n-1进行按位与运算;对于模板B:ResultB=TemplateB~2n-1这里的~表示按位取反运算,即对模板B中的每个像素值与2n-1的按位取反结果进行按位与运算;将ResultA和ResultB合并得到当前pass应该打印的数据,记为ResultPass:ResultPass=ResultA|ResultB;这里的|表示按位或运算,即将ResultA和ResultB中的每个像素值进行按位或运算;根据当前pass的序号和模板A、B的数据,按照上述规律进行按位与运算,并最后进行按位或运算,得到当前pass应该打印的数据,根据pass序号的不同,在每个pass中按照特定规律选择模板A和B的数据,并生成打印图像;根据规律与模板运算同时根据走纸量大小,把B模板做对应调整,第1pass取的数据直接与A模板做与运算,第2pass取的数据,做与运算的模板,变成在与第1pass重叠区域A1部分的互补区域B2,后面的pass如此往复,直至打印完prn所有数据,根据走纸量大小调整B模板的方式如下:第1pass的运算,第1pass取的数据直接与A模板做与运算,即ResultPass1=TemplateADataPass1;从第2pass开始,根据走纸量大小调整B模板;对于第2pass,将B模板中与第1pass重叠区域A1对应的部分称为互补区域B2,进行与运算时,使用DataPass2与B模板的互补区域B2进行与运算,即ResultPass2=B2DataPass2,以此类推;按照相同的逻辑,将上一pass的互补区域称为A1,将B模板中与A1对应的部分作为新的互补区域B2,进行与运算时,使用当前pass的数据与互补区域B2进行与运算,即ResultPassn=B2DataPassn;在步骤S1-S3中引入动态调整模板,根据打印机喷头使用时长、环境温湿度因素的变化,动态调整数据模板,通过图像处理算法实时监测打印品质和色块均匀性,对模板进行自适应调整,优化色块的分布和均匀性。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 广州市森扬电子科技有限公司 提高pass数改善色块均匀性的方法、设备及存储介质

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