申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2016-09-30

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117806136A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;G02B27/10;G02F1/33

优先权：["20151001 US 62/236,056","20151215 US 14/970,402"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：用于光刻工具的光源包括：被配置为发出第一光束和第二光束的源，第一光束具有第一波长，并且第二光束具有第二波长，第一波长和第二波长不同；放大器，被配置为将第一光束和第二光束放大，以分别产生第一放大光束和第二放大光束；以及光源与放大器之间的光学隔离器，光学隔离器包括：多个二向色光学元件以及两个二向色光学元件之间的光学调制器。

主权项：1.一种用于极紫外EUV光源的设备，所述设备包括：多个二向色光学元件，所述二向色光学元件中的每一个二向色光学元件被配置为反射具有第一波长带中的波长的光，并且透射具有第二波长带中的波长的光；以及位于所述二向色光学元件中的两个二向色光学元件之间的射束路径上的光学调制器，所述光学调制器被定位为接收从所述两个二向色光学元件反射的光，并且所述光学调制器被配置为当所接收到的光在所述射束路径上以第一方向传播时，透射所接收到的光，并且当所接收到的光在所述射束路径上以第二方向传播时，将所接收到的光偏离所述射束路径，所述第二方向不同于所述第一方向，其中所述第一波长带包括预脉冲光束的波长，并且所述第二波长带包括主射束的波长。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 光学隔离模块

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