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【发明授权】一种三路相干合成激光器_中国科学院合肥物质科学研究院_202011465864.2 

申请/专利权人:中国科学院合肥物质科学研究院

申请日:2020-12-14

公开(公告)日:2024-04-02

公开(公告)号:CN112467505B

主分类号:H01S3/086

分类号:H01S3/086;H01S3/081;H01S3/10;H01S3/23

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.02#授权;2021.03.26#实质审查的生效;2021.03.09#公开

摘要:本发明公开了一种三路相干合成激光器,包括三个激光单元,其中,激光增益介质A、全反镜M1、全反镜M4、全反镜M5、45°角全反镜M6、45°角平面镜M7、45°角平面镜M8构成第一激光单元;激光增益介质B、全反镜M2、全反镜M4、全反镜M5、45°角全反镜M6、45°角平面镜M7、45°角平面镜M8构成第二激光单元;激光增益介质C、全反镜M3、全反镜M4、全反镜M5、45°角全反镜M6、45°角平面镜M7、45°角平面镜M8构成第三激光单元;本发明的一种三路相干合成激光器,具有结构简单、方便调节、方便扩容、合成效率高、稳定性好的特点,易于广泛地商业化应用于照明、工业加工及国防等领域。

主权项:1.一种三路相干合成激光器,其特征在于,包括:激光增益介质A、激光增益介质B、激光增益介质C;全反镜M1、全反镜M2、全反镜M3、全反镜M4、全反镜M5、45°角全反镜M6、45°角平面镜M7、45°角平面镜M8;其中,激光增益介质A、全反镜M1、全反镜M4、全反镜M5、45°角全反镜M6、45°角平面镜M7、45°角平面镜M8构成第一激光单元;激光增益介质B、全反镜M2、全反镜M4、全反镜M5、45°角全反镜M6、45°角平面镜M7、45°角平面镜M8构成第二激光单元;激光增益介质C、全反镜M3、全反镜M4、全反镜M5、45°角全反镜M6、45°角平面镜M7、45°角平面镜M8构成第三激光单元;全反镜M3、激光增益介质C、45°角全反镜M6依次设置在第一光路L1上,且在第一光路L1上保持齐平;全反镜M2、激光增益介质B、45°角平面镜M7、全反镜M4依次设置在第二光路L2上,且在第二光路L2上保持齐平;全反镜M1、激光增益介质A、45°角平面镜M8、全反镜M5依次设置在第三光路L3上,且在第三光路L3上保持齐平;45°角全反镜M6、45°角平面镜M7、45°角平面镜M8依次设置在第四光路L4上,且在第四光路L4上保持齐平;第一光路L1、第二光路L2、第三光路L3之间互为平行,且第四光路L4与第一光路L1、第二光路L2、第三光路L3之间均为垂直;所述45°角平面镜M7的一侧面涂有透过率为t1的膜层,45°角平面镜M7的另一侧面涂有增透膜层;所述45°角平面镜M8的一侧面涂有透过率为t2的膜层,45°角平面镜M8的另一侧面涂有增透膜层;全反镜M3的全反射面朝向45°角全反镜M6的全反射面,且全反镜M3的全反射面与45°角全反镜M6的全反射面之间的夹角为45°;全反镜M2的全反射面朝向45°角平面镜M7的涂有透过率为t1的膜层的一侧面,且全反镜M2的全反射面与45°角平面镜M7的涂有透过率为t1的膜层的一侧面之间的夹角为45°;45°角平面镜M7的涂有增透膜层的一侧面朝向全反镜M4的全反射面,且45°角平面镜M7的涂有增透膜层的一侧面与全反镜M4的全反射面之间的夹角为45°;全反镜M1的全反射面朝向45°角平面镜M8的涂有增透膜层的一侧面,且全反镜M1的全反射面与45°角平面镜M8的涂有增透膜层的一侧面之间的夹角为45°;45°角平面镜M8的涂有透过率为t2的膜层的一侧面朝向全反镜M5的全反射面,且45°角平面镜M8的涂有透过率为t2的膜层的一侧面与全反镜M5的全反射面之间的夹角为45°;45°角平面镜M7的涂有增透膜层的一侧面朝向45°角全反镜M6的全反射面,且45°角全反镜M6与45°角平面镜M7平行放置,即45°角平面镜M7的涂有增透膜层的一侧面与45°角全反镜M6的全反射面之间相互平行;45°角平面镜M7的涂有透过率为t1的膜层的一侧面朝向45°角平面镜M8的涂有增透膜层的一侧面,且45°角平面镜M7与45°角平面镜M8垂直放置,即45°角平面镜M7的涂有透过率为t1的膜层的一侧面与45°角平面镜M8的涂有增透膜层的一侧面之间相互垂直。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院合肥物质科学研究院 一种三路相干合成激光器

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