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【发明授权】一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法及相关装置_无锡物联网创新中心有限公司_202310788257.7 

申请/专利权人:无锡物联网创新中心有限公司

申请日:2023-06-29

公开(公告)日:2024-04-02

公开(公告)号:CN116643468B

主分类号:G03F7/20

分类号:G03F7/20

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.02#授权;2023.09.12#实质审查的生效;2023.08.25#公开

摘要:本申请公开了一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法,涉及光刻机技术领域,包括:根据光刻机工件台的二阶抽象模型,确定非线性扰动观测器的数学模型;获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈‑反馈控制器的输出信号;根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号,计算得到光刻机工件台的总扰动估计值。该方法能够在线精确估计光刻机工件台的内外扰动。本申请还公开了一种光刻机工件台的内外扰动在线观测装置、设备以及计算机可读存储介质,均具有上述技术效果。

主权项:1.一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法,其特征在于,包括:根据光刻机工件台的二阶抽象模型,确定非线性扰动观测器的数学模型;获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈-反馈控制器的输出信号;根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号,计算得到光刻机工件台的总扰动估计值;所述非线性扰动观测器的数学模型为为所述总扰动估计值,c为所述非线性扰动观测器的增益,m为所述光刻机工件台的等效质量,λc为阻尼,λk为弹性系数,KP,motor为比例增益,ufb为所述前馈-反馈控制器的输出信号,z为中间变量,x1为所述光刻机工件台的实际位移,x2为x1的一阶导数;所述前馈-反馈控制器的输出信号为反馈环节根据输出的信号;ufb为所述输出信号,KP,pos为位置环的比例增益,KP,vel为速度环的比例增益,KI,vel为速度环的积分增益,ε*k=εk+uffk,ε为所述光刻机工件台位移的实际误差,uff为前馈环节的前馈输出,v为所述光刻机工件台的移动速度,k为第k时刻,ε*i表示的是第i时刻前馈环节的输出与光刻机工件台位移的实际误差的和,vi表示第i时刻光刻机工件台的移动速度。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 无锡物联网创新中心有限公司 一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法及相关装置

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