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【发明授权】一种高光黑耐刮擦PMMA/ASA复合材料及其制备方法_武汉金发科技有限公司;武汉金发科技企业技术中心有限公司_202011462912.2 

申请/专利权人:武汉金发科技有限公司;武汉金发科技企业技术中心有限公司

申请日:2020-12-14

公开(公告)日:2024-04-09

公开(公告)号:CN112552614B

主分类号:C08L25/12

分类号:C08L25/12;C08L33/12;C08L51/04;C08K3/30;C08K7/00;C08K5/00;C08K13/04

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.09#授权;2021.04.13#实质审查的生效;2021.03.26#公开

摘要:本发明提供一种高光黑耐刮擦PMMAASA复合材料及其制备方法,包括如下重量份的原料:SAN树脂:25‑60份、增韧剂:5‑15份、PMMA树脂:15‑35份、耐热剂:5‑15份、无机纳米粒子:1‑10份、助剂:1‑5份和着色剂:1‑5份。本发明针对PMMAASA材料的高亮黑,引入PMMA可以提高产品光泽,使其具有高光感,同时增加着色能力,通过加入有机着色复配溶剂可以使材料表面做到高亮黑,避免了炭黑引入导致材料光泽下降,利用无机二硫化钨纳米棒改善表面极性,降低表面摩擦系数,提高其耐刮擦性能,PMMAASA复合材料的工艺简单,能够解决其高光黑问题,避免材料喷涂改善环境污染问题,适于大规模量产。

主权项:1.一种高光黑耐刮擦PMMAASA复合材料,其特征在于,包括如下重量份的原料:SAN树脂:25-60份、增韧剂:5-15份、PMMA树脂:15-35份、耐热剂:5-15份、无机纳米粒子:1-10份、助剂:1-5份和着色剂:1-5份;所述PMMA树脂熔融指数在230℃3.8kg条件下为1-5g10min,密度为1.15-1.20gcm3;所述无机纳米粒子为纳米级钨和硫的化合物,化学分子式为:WS2,平均粒径60-120nm;所述着色剂按重量份计包括以下组分:溶剂红1350.5份、溶剂红1790.4份、溶剂蓝1040.6份、溶剂黄1140.7份;或溶剂红1350.4份、溶剂红1790.4份、溶剂蓝1040.5份、溶剂黄1140.6份;或溶剂红1350.7份、溶剂红1790.8份、溶剂绿31.2份;或溶剂红1350.7份、溶剂红1791份、溶剂绿31.4份;或溶剂红1351份、溶剂蓝1040.3份、溶剂黄1140.2份、溶剂绿30.6份;或溶剂红1350.5份、溶剂红1790.6份、溶剂蓝1040.4份、溶剂黄1140.2份、溶剂绿30.5份;或溶剂红1350.4份、溶剂红1790.4份、溶剂蓝1040.3份、溶剂黄11402份、溶剂橙1160.5份、溶剂绿30.5份;或溶剂蓝1040.6份、溶剂橙1160.7份、溶剂绿30.6份。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 武汉金发科技有限公司;武汉金发科技企业技术中心有限公司 一种高光黑耐刮擦PMMA/ASA复合材料及其制备方法

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