申请/专利权人：航天材料及工艺研究所

申请日：2021-10-29

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN114153019B

主分类号：G02B5/20

分类号：G02B5/20;G02B5/28;G02B1/00;G02B1/10;C23C14/54;C23C14/30;C23C14/20;C23C14/18;C23C14/10;C23C14/06;C23C14/02

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2022.03.25#实质审查的生效;2022.03.08#公开

摘要：本发明公开了一种红外隐身透波一体化超材料涂层及其制备方法，本发明制备方法中，以一维光子晶体作为涂层结构，以两种天线罩材料作为基材，通过材料体系和工艺参数的优化，实现了涂层制备质量和性能的有效控制，通过基材刮平、打磨、抛光的方式降低了天线罩基材的表面粗糙度，提升了涂层的制备效果和工艺稳定性，制备出了由高折射率和低折射率膜层交替组成的一维光子晶体结构涂层，该涂层在红外双波段3‑5μm、8‑14μm具有超低红外发射率、对2‑18GHz雷达波具有高透过特性，同时能够耐受450℃高温，可满足各类航天器型号产品雷达透波部位的耐高温、雷达透波和红外隐身一体化的需求。

主权项：1.一种红外隐身透波一体化超材料涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1将无机粉体和有机树脂混合后研磨，得到刮平料；2将刮平料与固化剂混合并搅拌均匀，得到混合料，利用混合料按照面密度200～350gm2对基材进行刮平处理；3将刮平处理后的基材依次进行研磨和抛光处理；4利用高折射层膜料和低折射率层膜料在抛光处理后的基材表面进行交替镀膜，得到一种红外隐身透波一体化超材料涂层；所述用高折射层膜料为Ge或Si，所述低折射率层膜料为ZnS，SiO2或YbF3的一种或一种以上；所述基材为石英纤维增强二氧化硅或石英纤维增强聚酰亚胺；所述步骤1中，无机粉体为SiO2或SiN4中的一种或两种的混合物；有机树脂为有机硅树脂或有机氟树脂中的一种或两种的混合物；所述步骤1中，将无机粉体和有机树脂混合后研磨的具体方法为，采用三辊研磨法研磨≥3遍；所述步骤1中，所得刮平料的细度≤80μm；所述步骤3中，研磨处理的具体方法为，将刮平处理后的基材置于转速为30～50rmin的研磨盘上，使用直径为5～10μm的金刚石颗粒，在0.8～1.2MPa压力下对刮平处理后的基材研磨20～30min；所述步骤3中，抛光处理的具体方法为，将研磨处理后的基材置于转速为40～80rmin的抛光盘上，使用直径0.8～1.2μm的BN颗粒，在1.5～2.5MPa压力下对研磨处理后的基材抛光40～60min，得到表面粗糙度≤5000A的基材。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 航天材料及工艺研究所 一种红外隐身透波一体化超材料涂层及其制备方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD