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【发明授权】一种增强铽掺杂硫氧化钆荧光材料发光强度的方法_长春理工大学_202310481821.0 

申请/专利权人:长春理工大学

申请日:2023-04-28

公开(公告)日:2024-04-09

公开(公告)号:CN116496788B

主分类号:C09K11/84

分类号:C09K11/84

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.09#授权;2023.08.15#实质审查的生效;2023.07.28#公开

摘要:本发明公开了一种增强Gd2O2S:Tb3+荧光材料激发和发射光谱强度的方法,通过将原料Gd2SO43·8H2O、Gd2O3、C粉、Tb4O7和烧结助剂KCl、LiF和K3PO4·3H2O按照化学计量比称取并研磨至混合均匀,利用双碳还原技术,在1150℃~1450℃的温度下煅烧0.5~6h,即得到具有优异发光性能的Gd2O2S:Tb3+荧光材料粉体。

主权项:1.一种增强Gd2O2S:Tb3+荧光材料激发和发射光谱强度的方法,其特征在于:以Gd2O3、Gd2SO43·8H2O、C粉和Tb4O7作为原料,通过引入KCl、LiF和K3PO4三种烧结助剂实现增强发光,利用双碳还原技术,在1150~1450℃下C粉提供的还原性气氛中煅烧0.5~6h获得Gd2O2S:Tb3+荧光材料,激发和发射光谱强度得到了增强。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 长春理工大学 一种增强铽掺杂硫氧化钆荧光材料发光强度的方法

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