申请/专利权人：上海艾深斯科技有限公司

申请日：2024-03-06

公开（公告）日：2024-04-05

公开（公告）号：CN117826533A

主分类号：G03F7/004

分类号：G03F7/004;G03F7/027;G03F7/038;C07H1/00;C07H13/08;C08G59/20

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.23#实质审查的生效;2024.04.05#公开

摘要：本发明涉及半导体芯片及化工领域，具体涉及一种MIL‑53‑丙烯酸酯复合物及负性光刻胶和制备方法。该复合物通过如下方法制备：将MIL‑53和丙烯酸酯类单体以重量比1：1‑10的比例，在氮气保护下加入溶剂中，200‑1000rpm搅拌，高温密闭反应36‑48h，过滤后真空干燥即得。所述的负性光刻胶组合物包括如下组分：环氧树脂，MIL‑53‑丙烯酸酯复合物，染料，光引发剂，流平剂以及溶剂；可改善树脂分子链纠缠杂乱问题，提高边缘垂直度和分辨率，同时可以具有识别、鉴定、条形码锚定潜力。

主权项：1.一种MIL-53-丙烯酸酯复合物，其特征在于，MIL-53-丙烯酸酯复合物通过如下方法制备：将MIL-53和丙烯酸酯类单体以重量比1：1-10的比例，在氮气保护下加入溶剂中，200-1000rpm搅拌，高温密闭反应36-48h，过滤后真空干燥即得；其中，溶剂为二丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇苯醚醋酸酯，乙酸乙二醇乙醚中的一种或多种；所述复合物的红外光谱显示如下特征峰：（C=O）1654cm-1,Cr-o765cm-1,c-c1370cm-1,o-o1567cm-1。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海艾深斯科技有限公司 一种MIL-53-丙烯酸酯复合物及负性光刻胶和制备方法

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