申请/专利权人：浙江恒申科技股份有限公司

申请日：2023-03-03

公开（公告）日：2024-04-05

公开（公告）号：CN220714403U

主分类号：A61K8/02

分类号：A61K8/02;A61Q17/00;A61Q17/04;A61Q19/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.05#授权

摘要：本实用新型公开一种遮瑕膜，其中，遮瑕膜包括遮瑕层，遮瑕层由若干微纳米纤维交织形成，微纳米纤维包括纳米纤维和微米纤维的至少一种。本实用新型技术方案解决现有遮瑕产品易于脱妆的问题。

主权项：1.一种遮瑕膜，其特征在于，包括遮瑕层，所述遮瑕层由若干微纳米纤维交织形成，所述微纳米纤维包括纳米纤维和微米纤维的至少一种；所述遮瑕膜还包括基材层，若干所述微纳米纤维通过静电纺丝法于所述基材层的一侧表面形成所述遮瑕层，所述基材层与所述遮瑕层层叠设置；所述遮瑕膜还包括保护膜层，所述保护膜层与所述遮瑕层层叠设置，并位于所述遮瑕层背离所述基材层的一侧。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 浙江恒申科技股份有限公司 遮瑕膜

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