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【发明公布】一种低副瓣低剖面高增益平板天线阵列_西安电子科技大学;陕西天翌科技股份有限公司_202410113700.5 

申请/专利权人:西安电子科技大学;陕西天翌科技股份有限公司

申请日:2024-01-26

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN117878623A

主分类号:H01Q21/00

分类号:H01Q21/00;H01Q21/06;H01P5/12

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要:一种低副瓣低剖面高增益平板天线阵列,包括由上至下依次连接的介质层、缝隙层、腔体层和馈电层;介质层位于天线上方完整覆盖天线;缝隙层中设有周期排布的领结形缝隙形状,领结形缝隙上方有长槽结构加载改善天线增益;腔体层内部具有矩形腔体,矩形腔体中有金属台阶、脊形结构与销钉结构加载,改善天线的阻抗匹配和增益,各腔体通过馈电层中的6级一分二功分器和一分六功分器级联馈电,使用不等幅功分器实现低副瓣性能;本发明实现了低副瓣高增益辐射,具有结构简单、性能稳定、易加工的优点。

主权项:1.一种低副瓣低剖面高增益平板天线阵列,其特征在于:包括由上至下依次连接的介质层1、缝隙层2、腔体层3和馈电层4。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 西安电子科技大学;陕西天翌科技股份有限公司 一种低副瓣低剖面高增益平板天线阵列

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