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【发明公布】NAND结构忆阻器阵列结构及其制备方法_清华大学_202311778006.7 

申请/专利权人:清华大学

申请日:2023-12-21

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN117877552A

主分类号:G11C13/00

分类号:G11C13/00;G11C5/02

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要:本发明涉及非易失存储技术领域,特别涉及一种NAND结构忆阻器阵列结构及其制备方法,其中,忆阻器阵列结构包括:多个1T1R单元结构,多个1T1R单元结构按行列设置,形成NAND结构忆阻器阵列结构,其中,位于同一列的多个1T1R单元结构串联,且位于两端的1T1R单元结构分别连接第二晶体管和第三晶体管,第二晶体管的漏极与位线连接,第三晶体管的源极与源线连接;位于同一行的每个1T1R单元结构的第一晶体管的栅极均与同一WL字线连接,位于同一行的第二晶体管的栅极均与同一漏选通线连接,第三晶体管的栅极均与同一源选通线连接。由此,解决了现有忆阻器阵列结构无法缩小至忆阻器理论最小特征面积4F2等问题。

主权项:1.一种1T1R单元结构,其特征在于,包括:忆阻器和第一晶体管,其中,所述忆阻器的一端与所述第一晶体管的源极连接,所述忆阻器的另一端与所述晶体管的漏极连接。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 清华大学 NAND结构忆阻器阵列结构及其制备方法

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