申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2022-07-21

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117882013A

主分类号：G03F9/00

分类号：G03F9/00

优先权：["20210812 US 63/232,483"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.12#公开

摘要：提供了用于使用离轴照射来测量强度的系统、设备和方法。示例方法可以包括：用第一辐射束以第一入射角照射衬底的表面的区，并且作为响应，测量从所述区域衍射的第一组光子。示例方法还可以包括：用第二辐射束以第二入射角照射所述区，并且作为响应，测量从所述区衍射的第二组光子。示例方法还可以包括基于所测量的第一组光子集和所测量的第二组光子来产生关于所述区的测量数据。

主权项：1.一种量测系统，包括：第一照射系统，所述第一照射系统被配置成：产生处于第一波长的第一辐射束，和以第一入射角朝向衬底的表面的区发射所述第一辐射束；第二照射系统，所述第二照射系统被配置成：产生处于第二波长的第二辐射束，和以第二入射角朝向所述区发射所述第二辐射束；第一检测系统，所述第一检测系统被配置成：测量第一衍射辐射束，所述第一衍射辐射束处于第一波长并且响应于所述第一辐射束对所述区的第一照射而以第一衍射角从所述区衍射，和基于所述第一衍射辐射束产生第一测量信号；第二检测系统，所述第二检测系统被配置成：测量第二衍射辐射束，所述第二衍射辐射束处于第二波长并且响应于所述第二辐射束对所述区的第二照射而以第二衍射角从所述区衍射，和基于所述第二衍射辐射束产生第二测量信号；以及控制器，所述控制器被配置成：基于所述第一测量信号和所述第二测量信号产生电子信号。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 使用离轴照射的强度测量

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