申请/专利权人:旭灿纳克株式会社;国立大学法人九州大学
申请日:2023-10-09
公开(公告)日:2024-04-12
公开(公告)号:CN117861884A
主分类号:B05B7/10
分类号:B05B7/10;B05B13/02;B05D1/02
优先权:["20221011 JP 2022-163304"]
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开
摘要:本发明提供一种涂覆装置及涂覆方法,能够抑制涂膜的膜厚的偏差。涂覆装置10对在规定的输送方向上被输送的作业对象物50的主面50A实施涂覆,其中,该涂覆装置具备多个喷嘴30,该多个喷嘴30沿着与输送方向交叉的宽度方向设置,并向主面50A喷洒涂布液,多个喷嘴30的每一个构成为使涂布液包含绕与主面50A交叉的轴回旋的回旋流而被喷洒,多个喷嘴30包括:多个第一喷嘴30A,喷洒向第一旋转方向回旋的回旋流;及多个第二喷嘴30B,喷洒向与第一旋转方向反向的第二旋转方向回旋的回旋流。
主权项:1.一种涂覆装置,对在规定的输送方向上被输送的作业对象物的主面实施涂覆,其中,该涂覆装置具备多个喷嘴,该多个喷嘴沿着与所述输送方向交叉的宽度方向设置,并向所述主面喷洒涂布液,所述多个喷嘴的每一个构成为使所述涂布液包含绕与所述主面交叉的轴回旋的回旋流而被喷洒,所述多个喷嘴包括:多个第一喷嘴,喷洒向第一旋转方向回旋的所述回旋流;及多个第二喷嘴,喷洒向与所述第一旋转方向反向的第二旋转方向回旋的所述回旋流。
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权利要求:
百度查询: 旭灿纳克株式会社;国立大学法人九州大学 涂覆装置及涂覆方法
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