申请/专利权人：安集微电子(上海)有限公司

申请日：2019-12-19

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN113004797B

主分类号：C09G1/02

分类号：C09G1/02

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2022.12.06#实质审查的生效;2021.06.22#公开

摘要：本发明提供一种化学机械抛光液，所述化学机械抛光液包含水、氧化铈、聚季氨盐、含苯环的羧酸、以及聚乙烯胺。只有聚季氨盐、含苯环的羧酸、聚乙烯胺三者一起使用，才会实现真正意义的自动停止功能，在空白片具有较低的抛光速率，而在图案化硅片的高的台阶高度时保持高的抛光速率，台阶高度越低时抛光速度抑制得越好，从而实现自动停止的功能。

主权项：1.一种化学机械抛光液，包含：氧化铈、聚季氨盐、含苯环的羧酸、聚乙烯胺、以及水；所述含苯环的羧酸选自水杨酸、4-羟基苯甲酸中的一种或多种，所述含苯环的羧酸浓度为900-2500ppm；所述聚乙烯胺浓度为0.5-6ppm，聚乙烯胺的分子量为400到750000；所述氧化铈浓度为0.5wt％-2wt％；所述聚季氨盐为聚季氨盐-6，聚季氨盐浓度为1-100ppm；所述化学机械抛光液的pH值为4.5。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 安集微电子(上海)有限公司 一种化学机械抛光液

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