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【发明授权】抗耐药菌近红外光治疗分子的制备及应用_南开大学_202210439351.7 

申请/专利权人:南开大学

申请日:2022-04-25

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN115181052B

主分类号:C07D209/12

分类号:C07D209/12;C07F5/02;A61K41/00;A61P31/04

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.12#授权;2022.11.01#实质审查的生效;2022.10.14#公开

摘要:本发明公开了一类具有细菌靶向的近红外光敏剂的制备及其用于耐多药幽门螺旋杆菌生物膜光疗。该类光敏剂由预修饰靶向基团的IR780分子与聚集诱导发光试剂TPE结构构成。该类抗菌光敏剂表现出良好的光热、光动及光热稳定性,且生物安全性好。细菌实验表明,该类光敏剂结构上的富正电荷基团具有良好的细菌靶向性。抗菌实验表明,在低浓度10μM和低激光功率808nm,0.3Wcm2下,该光敏剂所不仅能使浮游幽门螺杆菌细胞膜裂解,还可以破坏已形成的生物膜的完整性并杀伤其中的细菌附图。该光敏剂具有良好的光热特性及细菌性,因此有望应用于临床耐药菌的光疗研究中。

主权项:1.细菌靶向光敏剂,其特征在于,光敏剂由两分子预修饰胍基基团的IR780与一分子TPE基团构成,其结构式如1所示:

全文数据:

权利要求:

百度查询: 南开大学 抗耐药菌近红外光治疗分子的制备及应用

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