申请/专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所

申请日：2023-07-26

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN116952821B

主分类号：G01N17/00

分类号：G01N17/00;B64G7/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2023.11.14#实质审查的生效;2023.10.27#公开

摘要：一种太空紫外环境下航天材料与组件性能评估装置与方法，本发明可以准确评价太空紫外辐射对航天器敏感材料、元件或组件的抗激光损伤能力的影响及其抗激光损伤机制。对空间激光作用下的航天器外露材料及元件的研制、选用和评价提供了支持。

主权项：1.一种太空紫外环境下航天材料与组件性能评估装置，其特征在于：该装置包括激光器1）、紫外辐照源（2）、分束镜（3）、能量分析器（4）、光通道（5）、真空腔（6）、高速摄像系统（7）、污染成分监测系统（8）、样品（9）、污染沉积监测装置（10）、样品台（11）、光学样品温控装置（12）、真空系统（13）、测控系统（14）和紫外遮挡板（15）构成，在所述的真空腔（6）的一端设置所述的光通道（5），在所述的真空腔（6）内的另一端设有所述的样品台（11），在该样品台（11）上面对所述的光通道（5）一侧设置所述的光学样品温控装置（12），在所述的光学样品温控装置（12）面对所述的光通道（5）一侧设置所述的样品（9）和所述的污染沉积监测装置（10），在所述的真空腔（6）的所述的光通道（5）的下方设置所述的紫外辐照源（2），该紫外辐照源（2）输出的紫外光束能幅照所述的样品（9），在所述的光通道（5）外设置所述的激光器1）和分束镜（3），所述的激光器（1）输出的激光束依次经所述的分束镜（3）、光通道（5）照射在所述的样品（9）上，在所述的分束镜（3）的反射光方向设置所述的能量分析器（4），在所述的真空腔（6）内一侧设置所述的高速摄像系统（7）、污染成分监测系统（8）和紫外遮挡板（15），所述的紫外遮挡板（15）确保所述的高速摄像系统（7）、污染成分监测系统（8）和污染沉积监测装置（10）不受所述的紫外辐照源（2）输出的紫外光照射，在所述的真空腔（6）外设置所述的真空系统（13）、测控系统（14），所述的真空系统（13）与所述的真空腔（6）相连通，所述的测控系统（14）分别与所述的高速摄像系统（7）、污染成分监测系统（8）相连通；所述的激光器（1）为1064纳米、532纳米、355纳米的脉冲光源或1.0微米~1.1微米的连续光源的一种；所述的紫外辐照源（2）为汞灯、汞氙灯或氙灯近紫外辐照源或氘灯远紫外辐照源；所述的光学样品温控装置（12）由高温控制和低温控制组成，其中高温控制使用电加热丝，低温控制使用液氮或浴油温控装置，温度范围为-80℃~+120℃；所述的真空系统（13）由机械泵和分子泵组成，真空度低于0.1Pa。

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权利要求：

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