申请/专利权人：浙江大学杭州国际科创中心

申请日：2023-12-07

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117369222B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2024.01.26#实质审查的生效;2024.01.09#公开

摘要：本发明公开了一种极紫外物镜装调全息图的制备系统和制备方法。本发明极紫外物镜装调全息图的制备系统通过光纤阵列结构的设计可以实现高通量，同一时间由于光纤阵列中有多根光纤，所以通量是常规刻写的多倍。本发明通过光纤阵列的设计，可以实现高通量刻写，提高刻写效率，同时能够生产出亚波长纳米结构的大面积计算全息片（CGH），进一步降低了计算全息片的特征线宽，线宽可以达到nm级别，采用亚波长纳米结构的大面积计算全息片，解决了现有极紫外光刻物镜系统中，非球面面形高精度检测需求。

主权项：1.一种极紫外物镜装调全息图的制备系统，包括刻写子系统和成像照明子系统，其特征在于，所述刻写子系统包括激光器和光纤阵列，所述光纤阵列包括若干根成阵列排列的光纤，所述激光器包括多个，各激光器与所述光纤阵列中的光纤一一对应，通过控制激光器的开关强弱来实现当前需要有光出射的光纤出射激光开关强弱，所述刻写子系统还包括沿光路从上游到下游布置的第一物镜、场镜、第一二向色镜、第二物镜和工作台组件，所述工作台组件包括用于放置待加工基板、可在三个维度方向上移动的工作台、可在XY方向0-5°任意调节的偏摆台，所述光纤阵列中，各光纤的出射端排列成两行，每行包括多根，各光纤的光照射到所述工作台上时形成的光斑阵列也为两行，每行包括多个，所述工作台还能垂直所述光斑阵列中每行的延伸方向进行倾斜偏摆以调节各光纤的出射激光照射在待加工基板上时形成的两行光斑之间的间距。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 浙江大学杭州国际科创中心 一种极紫外物镜装调全息图的制备系统和制备方法

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