申请/专利权人：精工爱普生株式会社

申请日：2021-03-29

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN113467084B

主分类号：G02B27/01

分类号：G02B27/01

优先权：["20200331 JP 2020-062281"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2021.10.26#实质审查的生效;2021.10.01#公开

摘要：虚像显示装置以及光学单元。缩小光学系统整体，使虚像显示装置小型化。虚像显示装置具有：图像光生成装置11；投射光学系统21，其投射从图像光生成装置11射出的图像光；折返镜22，其将来自投射光学系统21的图像光朝交叉方向进行反射；半透过镜23，其反射来自折返镜22的图像光的一部分；以及凹面镜24，其将由半透过镜23反射后的图像光朝向半透过镜进行反射而形成射出光瞳，从图像光生成装置11至折返镜22的图像光的光轴配置在将半透过镜假想延长而得的第1假想延长面P21与将凹面镜假想延长而得的第2假想延长面P12之间。

主权项：1.一种虚像显示装置，其具有：图像光生成装置；投射光学系统，其投射从所述图像光生成装置射出的图像光；折返镜，其将来自所述投射光学系统的所述图像光朝交叉方向进行反射；半透过镜，其反射来自所述折返镜的所述图像光的一部分；以及凹面镜，其将由所述半透过镜反射后的所述图像光朝向所述半透过镜进行反射而形成射出光瞳，从所述图像光生成装置至所述折返镜的所述图像光的光轴配置在第1假想延长面与第2假想延长面之间，该第1假想延长面是将所述半透过镜假想延长而得的，该第2假想延长面是将所述凹面镜假想延长而得的，所述光轴相对于基准平面的法线倾斜10°以上30°以下，该基准平面包含所述半透过镜的法线和所述凹面镜的轴线，所述折返镜按照从所述图像光生成装置起的光路顺序，包含第1反射镜和第2反射镜，所述第2反射镜在以与所述凹面镜的轴线垂直的平面为基准的情况下，相对于该平面从所述图像光生成装置侧观察，绕与所述凹面镜的轴线垂直的水平轴沿逆时针方向倾斜20～40°，所述折返镜以避免遮挡所述半透过镜和所述凹面镜的有效区域的方式配置，所述半透过镜和所述凹面镜的所述有效区域是与在被所述半透过镜反射后从所述半透过镜射出并入射到所述凹面镜的所述图像光对应的区域。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 精工爱普生株式会社 虚像显示装置以及光学单元

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD