申请/专利权人：成都亿鑫机电设备有限公司

申请日：2023-09-18

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN220825211U

主分类号：B08B3/02

分类号：B08B3/02;B08B13/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.23#授权

摘要：本实用新型涉及多晶硅生产技术领域，特别是涉及一种可调节多晶硅还原炉清洗机构喷嘴，包括装置本体，所述装置本体包含安装座、中心管和圆形喷头，所述安装座前端开设有铰接座且铰接座内转动安装有转动轴，所述转动轴一侧连接有固定环，所述中心管插接在固定环内，所述中心管位于固定环上端部分设置有限位圈，所述转动轴两端贯穿安装座且设置有齿轮，所述齿轮下端啮合有齿条杆且齿条杆一端连接有微型气缸，所述中心管上端设置有通用接头，由此，能够实现对固定环的旋转角度调节，便于控制中心管及圆形喷头进行角度调节，通过水流形成的离心力带动圆形喷头在旋转座下端高度转动，以便于进行旋转喷水清洗操作，提高了装置实用性。

主权项：1.一种可调节多晶硅还原炉清洗机构喷嘴，其特征在于：包括装置本体1，所述装置本体1包含安装座2、中心管14和圆形喷头18，所述安装座2前端开设有铰接座5且铰接座5内转动安装有转动轴6，所述转动轴6一侧连接有固定环7，所述中心管14插接在固定环7内，所述中心管14位于固定环7上端部分设置有限位圈16，所述转动轴6两端贯穿安装座2且设置有齿轮9，所述齿轮9下端啮合有齿条杆10且齿条杆10一端连接有微型气缸12，所述中心管14上端设置有通用接头15且下端设置下接头17，所述圆形喷头18上端设置有上接头19且上接头19上端转动连接有旋转座20，所述旋转座20螺接在下接头17下端，所述旋转座20上依次设有上喷嘴21和下喷嘴22。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 成都亿鑫机电设备有限公司 一种可调节多晶硅还原炉清洗机构喷嘴

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