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【发明公布】一种准分子深紫外光源辐照改性聚合物薄膜的方法_中国科学院电工研究所_202410037520.3 

申请/专利权人:中国科学院电工研究所

申请日:2024-01-10

公开(公告)日:2024-04-16

公开(公告)号:CN117887126A

主分类号:C08J7/12

分类号:C08J7/12;C08L23/12;C08L67/02

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.04.16#公开

摘要:本发明公开了一种准分子深紫外光源辐照改性聚合物薄膜的方法,将一卷聚合物薄膜固定于自动薄膜缠绕机一端,薄膜依次通过蒸馏水和无水乙醇清洗、烘干机烘干、准分子深紫外光源辐照后卷绕至自动薄膜缠绕机另一端,即可完成改性。改性聚合物薄膜常温及高温下的击穿强度、放电能量密度、充放电效率得到显著提升。本发明所述改性方法在空气中即可完成,方便快捷,成本极低且无污染,是一种能够匹配聚合物薄膜商业化生产的高效改性方法。

主权项:1.一种准分子深紫外光源辐照改性聚合物薄膜的方法,其特征在于,包括:将一卷聚合物薄膜固定于自动薄膜缠绕机一端,使用自动薄膜缠绕机的活动轮轴来改变聚合物薄膜的卷绕路径,使其依次穿过蒸馏水器皿、无水乙醇器皿、烘干机、准分子深紫外光源;开启自动薄膜缠绕机后,聚合物薄膜经过清洗、烘干、紫外辐照后卷绕至自动薄膜缠绕机另一端,即完成改性。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院电工研究所 一种准分子深紫外光源辐照改性聚合物薄膜的方法

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