申请/专利权人：杭州邦齐州科技有限公司

申请日：2024-01-18

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117888089A

主分类号：C23C16/50

分类号：C23C16/50;C23C16/40;C23C16/18;C23C16/56;C23C14/35;C23C14/18

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.03#实质审查的生效;2024.04.16#公开

摘要：本发明涉及纳米材料技术领域，提供了一种周期性网状结构模板及其制备方法。本发明在衬底表面沉积二氧化硅膜层和银膜层，之后在银膜层上进行涂光刻胶、曝光及显影等操作，得到具有网状光刻胶涂层的衬底，随后对该结构进行刻蚀及去胶，即可得到周期性网状结构模板。本发明借助半导体生产工艺得到带有周期性网状结构的衬底，大幅减少了传统工艺的反应时间，并且操作简单，可获得大面积周期性良好的结构模板；通过控制反应离子束刻蚀的条件得到所需的网状结构模板，不需要使用各种对身体有害的修饰剂等化学品，可保障实验操作人员安全，且不会对纳米结构的表面活性产生影响，有利于模板进一步的应用。

主权项：1.一种周期性网状结构模板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在衬底表面依次沉积二氧化硅膜层和银膜层；在所述银膜层表面涂覆光刻胶后进行曝光和显影，得到网状光刻胶涂层；采用反应离子束刻蚀法，对衬底上裸露区域的银膜层和二氧化硅膜层进行刻蚀，之后去除网状光刻胶涂层，得到所述周期性网状结构模板。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 杭州邦齐州科技有限公司 一种周期性网状结构模板及其制备方法

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