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【发明授权】一种光罩排程及提前调度算法、设备及介质_上海朋熙半导体有限公司_202410039787.6 

申请/专利权人:上海朋熙半导体有限公司

申请日:2024-01-11

公开(公告)日:2024-04-16

公开(公告)号:CN117557072B

主分类号:G06Q10/0631

分类号:G06Q10/0631;G06Q10/087;G06Q50/04

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.16#授权;2024.03.01#实质审查的生效;2024.02.13#公开

摘要:本申请提供了一种光罩排程及提前调度算法、设备及介质,包括:配置光罩的平均搬运作业时间;计算距离下次检查光罩的剩余时间和剩余晶圆加工数量;获取每个光罩的生产作业计划;按时遍历光罩的目标晶圆加工批次并生成搬运调度任务;检测相邻晶圆加工批次的时间间隔及加工地点;对光罩所加工的晶圆数量进行累积;汇总所有光罩检查任务,同时创建光照检查调度任务。当系统执行时间到达光照调度任务表中的激活时间后,由光罩搬运系统创建光罩搬运调度指令,分配执行搬运任务。可以至少用以解决当光罩达到检查条件后,光罩不能继续执行光刻生产任务,需要进行缺陷检查的技术问题。

主权项:1.一种光罩排程及提前调度方法,其特征在于,包括:配置光罩进行搬运作业的平均作业时间;分别计算距离集成掩模检测系统和掩模版缺陷扫描系统下次检查光罩的剩余时间和剩余晶圆加工数量;根据光刻机排产调度结果获取每个光罩的生产作业计划;按时间顺序遍历光罩的未来晶圆加工批次和加工位置,并根据遍历结果生成搬运调度任务;所述光罩在光刻机台、检查机台、光罩存储器之间进行搬运作业;所述按时间顺序遍历光罩的目标晶圆加工批次,并根据遍历结果生成搬运调度任务的步骤中,根据遍历结果进行分析,如果后一晶圆批次所处的加工机台不同于前一晶圆批次所处的加工机台,则查询从前一加工机台搬往后一加工机台所需的毛搬运时间和净搬运时间,利用后一晶圆批次的光刻步骤作业开始时间减去毛搬运作业时间,得到推荐搬运时间,利用后一晶圆批次的光刻步骤作业开始时间减去净搬运作业时间,得到最晚搬运时间,然后生成搬运调度任务;所述搬运调度任务包括光罩编号,出发点编号,目的地编号,任务激活时间,推荐搬运时间和最晚搬运时间;检测前后两个晶圆加工批次之间的时间间隔及加工地点;所述检测前后两个晶圆加工批次之间的时间间隔及加工地点的步骤中,若前后两个晶圆加工批次之间的时间间隔超过用户配置时间,且加工地点不同,则分别生成两个搬运调度任务;所述两个搬运调度任务中,第一个任务将光罩从前一个晶圆批次的位置调出,调入后一个光刻地点附近的光罩存储器,任务激活时间和推荐搬运时间均为前一个晶圆批次的光刻作业结束时间,最晚搬运时间为推荐搬运时间后延1小时;第二个调度任务将光罩从光罩存储器调入后一个光刻地点,其推荐搬运时间为后一晶圆批次的光刻步骤作业开始时间前去毛搬运作业时间,最晚搬运时间等于后一晶圆批次的光刻步骤作业开始时间减去净搬运作业时间,任务激活时间为推荐搬运时间提前半小时;在遍历光罩的所有光刻作业任务时,集成掩模检测系统和掩模版缺陷扫描系统分别对光罩所加工的晶圆数量进行累积;根据累积结果创建光罩检查任务,所述光罩检查任务包含以下信息:出发点,检查类型,检查激活时间,剩余待加工的晶圆批次数量,剩余待加工的晶圆片数和剩余待加工的晶圆批次中最紧急的工艺等待时间,其中,检查激活时间为触发检查条件的时间,如果光罩不会触发由于晶圆加工数量所决定的检查条件,则沿着时间轴对待检查时间进行累积,当累积时间达到晶圆检查条件所规定的时间附近,则创建一个由时间累积条件触发的光罩检查任务,所创建的光罩检查任务回写数据库中的光罩检查任务表;汇总所有光罩检查任务,作为集成掩模检测系统和掩模版缺陷扫描系统检测的数据输入,输出每个光罩检查任务的检查机台和检查开始时间,同时创建光罩检查调度任务,所述光罩检查调度任务包括出发点,检查类型,激活时间,剩余待加工的晶圆批次数量,剩余待加工的晶圆片数,剩余待加工的晶圆批次中最紧急的工艺等待时间,目的地机台,检查开始时间,推荐搬运时间和最晚搬运时间,其中,出发点,检查类型,激活时间,剩余待加工的晶圆批次数量,剩余待加工的晶圆片数,剩余待加工的晶圆批次中最紧急的工艺等待时间来自所述光罩检查任务,所创建的光罩检查调度任务回写数据库中的光罩调度任务表;当系统执行时间到达光罩调度任务表中的激活时间后,由光罩搬运系统创建待检查光罩的搬运调度指令,分配执行前往检查机台的光罩搬运任务。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海朋熙半导体有限公司 一种光罩排程及提前调度算法、设备及介质

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