申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2018-05-03

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN110741319B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;H01L21/683

优先权：["20170606 EP 17174583.9","20180118 EP 18152220.2"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2020.06.30#实质审查的生效;2020.01.31#公开

摘要：一种在卸载过程期间从支撑台卸载物体的方法，所述物体在曝光过程期间通过以下方式被夹持到所述支撑台：向所述物体的中心部分下方的所述支撑台的中心区域施加第一压力；以及向物体的周缘部分下方的支撑台的周缘区域施加第二压力，其中在夹持期间控制所述第一压力和所述第二压力，使得液体被保持在物体与密封构件之间，所述密封构件在支撑台的上表面处径向地定位在所述中心区域与所述周缘区域之间，并且朝向所述物体突出，所述方法包括：朝向环境压力增大所述第一压力；通过减小所述第二压力来去除保持在所述物体与所述密封构件之间的液体中的至少一些液体；以及朝向所述环境压力增大所述第二压力。

主权项：1.一种用于光刻设备的真空系统，所述真空系统包括：支撑台，所述支撑台配置成保持物体；第一真空压力线路，所述第一真空压力线路配置成将所述支撑台夹持至所述光刻设备的衬底台；第二真空压力线路，所述第二真空压力线路配置成向所述物体的周缘部分下方的所述支撑台的周缘区域施加第二压力；第三真空压力线路，所述第三真空压力线路配置成向所述物体的中心部分下方的所述支撑台的中心区域施加第一压力，以便将所述物体夹持至所述支撑台；第一流量控制器，所述第一流量控制器用于控制所述第二真空压力线路中的压力；和第二流量控制器，所述第二流量控制器配置成控制第三真空压力线路中的压力，其中，所述真空系统被配置成使得第一压力和第二压力之间的压力差被维持。

全文数据：

权利要求：

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