申请/专利权人：盛吉盛(韩国)半导体科技有限公司

申请日：2023-10-16

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN117912925A

主分类号：H01J37/32

分类号：H01J37/32;H01L21/67

优先权：["20221018 KR 10-2022-0134325"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开

摘要：本发明涉及一种基板处理装置的供气结构体，在具有与从气体供给源沿上下方向延伸的供应管道连通的上方通道；以及与连接到各工艺腔室的移送管道连通的分支通道的分配体的分支位置上，利用密封状态的旋转轴旋转调节板来设定旋转位置，并利用机械工具进行固定，即使存在气体管道的尺寸误差和连接部中的组装误差等，也能够均匀地控制从一个气体供给源向至少两个工艺腔室提供工艺气体时单位时间的供给量。

主权项：1.一种基板处理装置的供气结构体，该供气结构体用于从气体供给源向执行基板处理工艺的第一工艺腔室和第二工艺腔室提供工艺气体，其特征在于，包括：气体供给源；分配体，其包括向上方延伸的上方通道、与所述上方通道连通的第一分支通道、与所述上方通道连通的第二分支通道；供应管道，其以与所述上方通道连通的形态连接所述分配体和所述气体供给源，用于从所述气体供给源向所述分配体移送工艺气体；第一移送管道，其以与所述第一分支通道连通的形态连接所述分配体和所述工艺腔室，用于从所述分配体向所述第一工艺腔室移送工艺气体；第二移送管道，其以与所述第二分支通道连通的形态连接所述分配体和所述工艺腔室，用于从所述分配体向所述第二工艺腔室移送工艺气体；调节单元，其在所述上方通道与所述第一分支通道和所述第二分支通道相交的位置上具有可通过旋转轴旋转的调节板，用于调节从所述上方通道流入的工艺气体流向所述第一分支通道和所述第二分支通道的分配比例。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 盛吉盛(韩国)半导体科技有限公司 基板处理装置的供气结构体

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