申请/专利权人：信越化学工业株式会社

申请日：2023-10-17

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN117908325A

主分类号：G03F7/004

分类号：G03F7/004;G03F7/00

优先权：["20221019 JP 2022-167620"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开

摘要：本发明涉及化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度且高对比度、线的LWR及孔洞的CDU经改善、图案形成后的蚀刻耐性仍优良的化学增幅抗蚀剂组成物，以及提供使用其的图案形成方法。该课题的解决手段是一种化学增幅抗蚀剂组成物，含有：A聚合物，因酸的作用而对碱水溶液的溶解性会增加，其含有下式A1表示的重复单元及下式B1表示的重复单元，且不含因曝光而产生酸的重复单元，及B光酸产生剂，以下式PAG‑a或PAG‑b表示，且因KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束或极紫外线的作用而产生酸。

主权项：1.一种化学增幅抗蚀剂组成物，含有：A聚合物，因酸的作用而对碱水溶液的溶解性会增加，其含有下式A1表示的重复单元及下式B1表示的重复单元，且不含因曝光而产生酸的重复单元，及B光酸产生剂，以下式PAG-a或PAG-b表示，且因KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束或极紫外线的作用而产生酸； 式中，a1为0或1；a2为0～3的整数；RA为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；X1为单键、亚苯基、亚萘基或*-C＝O-O-X11-；X11为也可含有羟基、醚键、酯键、硫醚键、磺酰胺键、内酯环或磺内酯环的碳数1～10的饱和亚烃基、或亚苯基或亚萘基；*表示和主链的碳原子的原子键；Ra1及Ra2分别独立地为氢原子、或也可含有杂原子的碳数1～20的烃基，但Ra1及Ra2不会同时为氢原子；又，Ra1与Ra2也可互相键结并和它们所键结的碳原子一起形成环；Ra3为卤素原子、或也可含有杂原子的碳数1～20的烃基；a2≥2时，多个Ra3也可互相键结并和它们所键结的碳原子一起形成环； 式中，b1为1～4的整数，b2为0～3的整数；但，1≤b1+b2≤5；RA为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；X2为单键或*-C＝O-O-；*表示和主链的碳原子的原子键；Rb1为卤素原子、氰基、也可含有杂原子的碳数1～20的烃基、也可含有杂原子的碳数1～20的烃基氧基、也可含有杂原子的碳数2～20的烃基羰基、也可含有杂原子的碳数2～20的烃基羰基氧基或也可含有杂原子的碳数2～20的烃基氧基羰基；b2≥2时，多个Rb1也可互相键结并和它们所键结的碳原子一起形成环； 式中，R0为氢原子或碳数1～50的烃基，且该烃基的氢原子的一部分或全部也可被卤素原子取代，该烃基的-CH2-的一部分也可被-O-或-C＝O-取代；Xa+为有机阳离子； 式中，R1及R2分别独立地为也可含有杂原子的碳数1～20的烃基；又，R1及R2也可互相键结并和它们所键结的硫原子一起形成环；R3为也可含有杂原子的碳数1～20的亚烃基；LA为2价连接基团；LB为单键、或也可含有杂原子的碳数1～20的亚烃基。

全文数据：

权利要求：

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