申请/专利权人：太阳控股株式会社

申请日：2020-03-27

公开（公告）日：2024-05-10

公开（公告）号：CN113646698B

主分类号：G03F7/027

分类号：G03F7/027;G03F7/037;G03F7/20;G03F7/26;G03F7/40

优先权：["20190329 JP 2019-069044"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.05.10#授权;2023.11.14#专利申请权的转移;2021.11.30#实质审查的生效;2021.11.12#公开

摘要：本发明提供光致抗蚀剂组合物，该光致抗蚀剂组合物即使利用弱碱性显影液也可进行显影，可得到高分辨率的微细图案化，并且剥离性也优异。光致抗蚀剂组合物，其特征在于：包含A含羧基树脂、B光聚合性单体和C热固化性成分而构成，其中，在平面基板上涂布上述光致抗蚀剂组合物使固化后的膜厚为2μm±0.5μm，在75℃、30分钟的预烘后，在大气环境下以1,000mJcm2的曝光量曝光包含波长375nm的紫外线1，使上述光致抗蚀剂组合物固化，然后通过在30℃下使用1wt%的Na2CO3水溶液进行180秒的显影处理而形成固化被膜1，将其表面的算术平均粗糙度Ra设为Ra1，进一步在氧环境下以25.2Jcm2的曝光量对上述固化被膜1曝光包含波长185nm和254nm的紫外线2而形成固化被膜2，将其表面的算术平均粗糙度Ra设为Ra2，在这种情况下满足式：Ra2Ra1≤4.5×10‑1。

主权项：1.光致抗蚀剂组合物，其特征在于：是包含下述成分A～C而构成的光致抗蚀剂组合物，A含羧基树脂；B光聚合性单体；以及C热固化性成分，其中，在平面基板上涂布上述光致抗蚀剂组合物使固化后的膜厚为2μm±0.5μm，在75℃、30分钟的预烘后，在大气环境下以1,000mJcm2的曝光量曝光包含波长375nm的紫外线1，使上述光致抗蚀剂组合物固化，然后通过在30℃下使用1wt％的Na2CO3水溶液进行180秒的显影处理而形成固化被膜1，将其表面的算术平均粗糙度Ra设为Ra1，进一步在氧环境下以25.2Jcm2的曝光量对上述固化被膜1曝光包含波长185nm和254nm的紫外线2而形成固化被膜2，将其表面的算术平均粗糙度Ra设为Ra2，在这种情况下满足下述式：Ra2Ra1≤4.5×10-1。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 太阳控股株式会社 光致抗蚀剂组合物及其固化物

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