申请/专利权人：绍兴文理学院

申请日：2023-12-20

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN117904772A

主分类号：D03D13/00

分类号：D03D13/00;D03D15/283;D03D15/54

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开

摘要：本申请提供一种双面数码大提花织物的织造方法，属于以经纬纱特定设置为特征的织物制造方法技术领域。分别设计正反面两幅图案Img_A、Img_B，对图像进行修正变形，灰度分组后合并成新的合成图案G_AB，确定正面基础组织W_A后，将W_A沿组织循环交界线作镜像得到反面基础组织W_B，再生成正面组织库、反面组织库，进而得到双层组织的表层组织和里层组织，设定合适的表经密度、表纬密度进行织造。上述方案克服了双面大提花织物的正反面图案和组织选择受局限的问题，实现双面数码图像纹织工艺的快速处理，使面料正反面具有不同图案风格，可用于制成一体成型的包、袋、服装面料、装饰面料等。

主权项：1.一种双面数码大提花织物的织造方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一，数字图案处理S1，分别设计正面图案Img_A、反面图案Img_B，两幅图案为真彩图或灰度图，且大小相同，S2，正面图案Img_A进行上下左右颠倒处理，反面图案Img_B则进行上下颠倒处理，S3，提取正面图案Img_A、反面图案Img_B中每个像素的灰度值，为每个灰度值进行分组归并，灰度分组归并后生成新的正面图案G_A、反面图案G_B，新图每个像素与原图的关系满足：G_Ai,j＝roundImg_Ai,j255A，G_Bi,j＝roundImg_Bi,j255B，式中，nA、nB表示设定的灰度阶层数；正面基础组织W_A、反面基础组织W_B循环数分别为mA、mB，nA＝mA-1，nB＝mB-1；round为对指定的小数进行四舍五入运算的函数，S4，提取正面图案G_A、反面图案G_B的每一行像素，对正面图案G_A、反面图案G_B的每行像素按从上往下的次序1:1相互穿插，生成新的合成图案G_AB，步骤二，正反面组织设计S1，选择正面基础组织W_A为单经组织点的斜纹或缎纹，S2，先生成一个与正面基础组织W_A相同的组织，再将正面基础组织W_A沿组织循环交界线作镜像，即得反面基础组织W_B，正面基础组织W_A与反面基础组织W_B互为镜像组织，组织结构相同但表面外观纹路方向相反，S3，对正面基础组织W_A中的单个组织点沿经或纬向逐一增加连续的组织点，总共得到nA＝mA-1个组织，生成正面组织库W_Aii＝1,2,3…nA，对反面基础组织W_B中的单个组织点沿经或纬向逐一增加连续的组织点，总共得到nB＝mB-1个组织，生成反面组织库W_Bii＝1,2,3…nB，将正面组织库W_Aii＝1,2,3…nA中的每个组织处理为双层组织的表层组织Wsur_Aii＝1,2,3…nA，方法是：在组织图中每一列右侧插入一列空列，代表表纬与里经相交，表纬提升里经下沉，取反面组织库W_Bii＝1,2,3…nB中的每个组织，处理为双层组织的里层组织Winn_Bii＝1,2,3…nB，方法是：在组织图中每一列左侧插入一列满组织点列，代表里纬与表经相交，表经提升里纬下沉，步骤三，织造根据步骤一的图案处理和步骤二的组织设计方案，继续在提花设计CAD软件中填写纹织工艺信息，在纹织工艺的组织表中，将步骤一中合成的图案G_AB，以一一对应的方法将每个的像素颜色铺设成表里层组织库中的组织，方法是：G_AB中正面图案的每个像素用表层组织库Wsur_Aii＝1,2,3…nA中的组织铺设，像素中黑到白的过渡与表层组织库中的纬面到经面组织一一对应替换；G_AB中反面图案的每个像素用里层组织库Winn_Bii＝1,2,3…nB中的组织铺设，像素中白到黑的过渡与里层组织库中的纬面到经面组织一一对应替换，生成纹板信息后，在双经轴电子大提花机上反织织造，生产出两面不一样图案的大提花织物。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 绍兴文理学院 一种双面数码大提花织物的织造方法

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